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2,2,4,4-四氟己烷 | 86154-56-5

中文名称
2,2,4,4-四氟己烷
中文别名
——
英文名称
2,2,4,4-tetrafluorohexane
英文别名
——
2,2,4,4-四氟己烷化学式
CAS
86154-56-5
化学式
C6H10F4
mdl
——
分子量
158.139
InChiKey
XLDULKBTQUUSCI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    98-99 °C
  • 密度:
    1.088 g/cm3

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.2
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2,4-己二酮 在 sulfur tetrafluoride 作用下, 反应 40.0h, 生成 2,2,4,4-四氟己烷
    参考文献:
    名称:
    Stepanov, I. V.; Burmakov, A. I.; Kunshenko, B. V., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1983, vol. 19, p. 244 - 248
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • STEPANOV, I. V.;BURMAKOV, A. I.;KUNSHENKO, B. V.;ALEKSEEVA, L. A.;YAGUPOL+, ZH. ORGAN. XIMII, 1983, 19, N 2, 273-279
    作者:STEPANOV, I. V.、BURMAKOV, A. I.、KUNSHENKO, B. V.、ALEKSEEVA, L. A.、YAGUPOL+
    DOI:——
    日期:——
  • FUSER MEMBER HAVING COMPOSITE OUTER LAYER
    申请人:Moorlag Carolyn
    公开号:US20120257914A1
    公开(公告)日:2012-10-11
    Exemplary embodiments provide composite materials used for fixing members that can include silsesquioxane-based particles and/or carbon nanotubes dispersed in a polymer matrix.
  • RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
    申请人:MASUYAMA Tatsuro
    公开号:US20120270154A1
    公开(公告)日:2012-10-25
    The present invention provides a resin comprising a structural unit derived from a compound represented by the formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, A 2 represents a divalent fluorine-containing C1-C12 hydrocarbon group, and A 1 represents a group represented by the formula (a-g1): A 10 -X 10  s A 11 -  (a-g1) wherein A 10 is independently in each occurrence a C1-C5 aliphatic hydrocarbon group, A 11 represents a C1-C5 aliphatic hydrocarbon group, X 10 is independently in each occurrence —O—, —CO—, —CO—O— or —O—CO—, and s represents an integer of 0 to 2, and a photoresist composition comprising the resin and an acid generator.
  • US8710137B2
    申请人:——
    公开号:US8710137B2
    公开(公告)日:2014-04-29
  • US8765357B2
    申请人:——
    公开号:US8765357B2
    公开(公告)日:2014-07-01
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