申请人:BASF Aktiengesellschaft
公开号:EP0353667A1
公开(公告)日:1990-02-07
Bithienylderivat der allgemeinen Formel la,
in der die Substituenten folgende Bedeutung haben:
R1, R2 Wasserstoff, Halogen, Nitro, Formyl, C1-C6-Alkyl, C1-C6-Halogenalkyl, C3-Cs-Cycloalkyl, C3-C8-Cycloalkoxy, Ci-C6-Alkoxy, C1-C4-Halogenalkoxy, C1-C4-Alkylthio, C1-C4-Halogenalkylthio, ggf. substituiertes C1-C6-Alkylcarbonyl, ggf. substituiertes C3-C6-Cycloalkylcarbonyl, ggf. substituiertes Ci-C6-Alkoxycarbonyl und/oder Phenylcarbonyl;
R3 Wasserstoff, ein Halogen, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy, C1-C4-Alkylthio, C1-C4-Halogenalkyl oder C1-C4-Halogenalkoxy;
A -CSNH2;
ggf. substituiertes Oxazol-2-yl, Oxazol-5-yl, Isoxazol-3-yl, Pyrzol-3-yl, Pyrazol-5-yl, Thiazol-2-yl oder ein entsprechender benzokondensierter Rest;
Verfahren zur Herstellung der Verbindungen la sowie Mittel, enthaltend ein Bithienylderivat der allgemeinen Formel I,
in der
B -CSNH2;
ggf. substituiertes Pyridyl, Chinolinyl, Phenyl, Naphthyl, Furyl, Pyrrolyl, Pyrazolyl, Imidazolyl, Oxazolyl, Isoxazolyl, Thiazolyl oder ein entsprechender benzokondensierter Rest,
bedeutet.
式 la、
其中取代基的含义如下:
R1、R2 为氢、卤素、硝基、甲酰基、C1-C6 烷基、C1-C6 卤代烷基、C3-Cs 环烷基、C3-C8 环烷氧基、Ci-C6 烷氧基、C1-C4 卤代烷氧基、C1-C4 烷硫基、C1-C4 卤代烷硫基、任选取代的 C1-C6 烷基羰基、任选取代的 C3-C6 环烷基羰基、任选取代的 Ci-C6 烷氧基羰基和/或苯基羰基;
R3 氢、卤素、C1-C4 烷基、C1-C4 烷氧基、C1-C4 硫代烷基、C1-C4 卤代烷基或 C1-C4 卤代烷氧基;
A -CSNH2;
任选取代的噁唑-2-基、噁唑-5-基、异噁唑-3-基、吡唑-3-基、吡唑-5-基、噻唑-2-基或相应的苯并融合基;
制备含有通式 I 的双噻吩基衍生物的 la 化合物和制剂的工艺、
其中
B -CSNH2;
任选取代的吡啶基、喹啉基、苯基、萘基、呋喃基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、噁唑基、异噁唑基、噻唑基或相应的苯并自由基、
指