2,3-二溴苯磺酸 | 101762-44-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,3-二溴苯磺酸
• 英文名称: 2,3-dibromo-benzenesulfonic acid
• 英文别名: 2,3-Dibrom-benzolsulfonsaeure；Benzenesulfonic acid, dibromo-；2,3-dibromobenzenesulfonic acid
• CAS: 101762-44-1
• 化学式: C₆H₄Br₂O₃S
• 分子量: 315.97
• InChiKey: YTCDCQWZOGUBQQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3-二溴苯磺酸 生成 2,3-dibromo-benzenesulfonic acid amide
  参考文献：
  名称：

  Lauer, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1933, vol. <2> 138, p. 81,86, 89, 90

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,2-二溴苯 在 硫酸 、 汞 作用下， 生成 1,2-二溴苯-4-磺酸 、 2,3-二溴苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  Lauer, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1933, vol. <2> 138, p. 81,86, 89, 90

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Cleaning formulations
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10626353B2

  公开（公告）日：2020-04-21

  This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one redox agent; 2) at least one organic solvent selected from the group consisting of water soluble alcohols, water soluble ketones, water soluble esters, water soluble sulfones, and water soluble ethers; 3) at least one boron-containing compound selected from the group consisting of boric acid, boronic acids, and salts thereof; and 4) water.

  本公开涉及一种清洁组合物，其中包含 1) 至少一种氧化还原剂；2) 至少一种有机溶剂，选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、水溶性砜和水溶性醚组成的组；3) 至少一种含硼化合物，选自由硼酸、硼酸及其盐组成的组；以及 4) 水。
• Cleaning compositions for removing residues on semiconductor substrates
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10702893B2

  公开（公告）日：2020-07-07

  This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one redox agent; 2) at least one water soluble organic solvent; 3) at least one metal-containing additive; 4) at least one cyclic amine, and 5) water.

  本公开涉及一种清洁组合物，其中包含 1) 至少一种氧化还原剂；2) 至少一种水溶性有机溶剂；3) 至少一种含金属添加剂；4) 至少一种环胺和 5) 水。
• Cleaning compositions
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10752867B2

  公开（公告）日：2020-08-25

  This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one redox agent; 2) at least one alkylsulfonic acid or a salt thereof, the alkylsulfonic acid containing an alkyl group substituted by OH or NH2; 3) at least one aminoalcohol; 4) at least one corrosion inhibitor; 5) at least one water soluble organic solvent; 6) water; and 7) optionally, at least one pH adjusting agent.

  本公开涉及一种清洁组合物，其中包含 1) 至少一种氧化还原剂；2) 至少一种烷基磺酸或其盐，烷基磺酸含有一个被 OH 或 NH2 取代的烷基；3) 至少一种氨基醇；4) 至少一种腐蚀抑制剂；5) 至少一种水溶性有机溶剂；6) 水；以及 7) 可选的至少一种 pH 值调节剂。
• NOVEL ETCHING COMPOSITION
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP2683792B1

  公开（公告）日：2019-09-25
• LIGHTWEIGHT FLAME RETARDANT THERMOPLASTIC STRUCTURES
  申请人：Schneller, LLC

  公开号：EP3365168A1

  公开（公告）日：2018-08-29