氯甲基环己基硫化物 | 68483-71-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 中文名称: 氯甲基环己基硫化物
• 英文名称: Chlormethyl-cyclohexyl-sulfid
• 英文别名: chloromethyl cyclohexyl sulphide；[(Chloromethyl)sulfanyl]cyclohexane；chloromethylsulfanylcyclohexane
• CAS: 68483-71-6
• 化学式: C₇H₁₃ClS
• 分子量: 164.699
• InChiKey: UAWFPBICPLHLCY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  99-102°C 14mm

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  25.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 危险等级：
  9
• 安全说明：
  S26,S36
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 危险品运输编号：
  UN 3334

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氯甲基环己基硫化物 生成 Cyclohexyl-<α,α-dichlor-methyl>-sulfon
  参考文献：
  名称：

  .alpha.-Halo sulfones. VII. The Ramberg-Baecklund rearrangement of .alpha.,.alpha.-dichloromethyl sulfones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00993a043
• 作为产物：
  描述：

  环己硫醇 在 盐酸 、 无水氯化钙 、 paraformaldehyde 作用下， 生成 氯甲基环己基硫化物
  参考文献：
  名称：

  Diazodisulfones

  摘要：

  公式为：##STR1## 其中 R.sup.1 是 C.sub.3-8 支链或环烷基，R.sup.2 是 C.sub.1-8 直链、支链或环烷基，当在光波长为 300 纳米或更短的光下用于光刻胶材料时，这种二硫酰胺偶氮化合物是一种有效的光酸发生剂。

  公开号：

  US05216135A1

文献信息

• [EN] COMPOSITIONS AND METHODS OF MODULATING SHORT-CHAIN DEHYDROGENASE ACTIVITY<br/>[FR] COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS DE MODULATION DE L'ACTIVITÉ DE LA DÉSHYDROGÉNASE À CHAÎNE COURTE
  申请人：UNIV CASE WESTERN RESERVE

  公开号：WO2018218251A1

  公开（公告）日：2018-11-29

  Compounds and methods of modulating 15-PGDH activity, modulating tissue prostaglandin levels, treating disease, diseases disorders, or conditions in which it is desired to modulate 15-PGDH activity and/or prostaglandin levels include 15-PGDH inhibitors described herein.

  化合物的15-PGDH活性调节方法、组织前列腺素水平调节、疾病治疗、疾病紊乱或希望调节15-PGDH活性和/或前列腺素水平的状况包括本文描述的15-PGDH抑制剂。
• Esters of penicillanic acid sulfone
  申请人：Pfizer Inc.

  公开号：US04361513A1

  公开（公告）日：1982-11-30

  A process for preparing halomethyl esters of penicillanic acid sulfone, intermediates to beta-lactamase inhibitors, from the corresponding substituted thiomethyl and sulfinylmethyl esters and a halogenating agent. The thiomethyl and sulfinylmethyl esters of penicillanic acid sulfone are useful intermediates.

  一种制备青霉烷酸磺酸半酯卤代甲酯的方法，该方法使用相应的取代硫代甲基和亚砜基甲酯以及卤代试剂作为中间体制备β-内酰胺酶抑制剂。青霉烷酸磺酸的硫代甲基和亚砜基甲酯是有用的中间体。
• Radiation sensitive composition
  申请人：Mitsubishi Chemical Corporation

  公开号：US06090518A1

  公开（公告）日：2000-07-18

  A radiation sensitive composition comprising a film-forming resin and a bis(sulfonyl)diazomethane compound of the following formula (1) or (2): ##STR1## wherein each of R.sup.1 and R.sup.3 is a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted, R.sup.2 is a halogen atom, an alkoxy group which may be substituted, a nitro group, a cyano group, a nitrile group or an amide group, and each of R.sup.4, R.sup.5 and R.sup.6 which are independent of one another, is a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted, a halogen atom, an alkoxy group which may be substituted, a nitro group, a cyano group, a nitrile group or an amide group.

  一种辐射敏感组合物，包括一种能形成薄膜的树脂和以下式子（1）或（2）的双（磺酰基）重氮甲烷化合物：##STR1## 其中，R^1和R^3各自是线性、支链或环烷基，可以被取代；R^2是卤素原子、可以被取代的烷氧基、硝基、氰基、腈基或酰胺基；R^4、R^5和R^6各自独立地是线性、支链或环烷基，可以被取代，是卤素原子、可以被取代的烷氧基、硝基、氰基、腈基或酰胺基。
• Resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06338931B1

  公开（公告）日：2002-01-15

  A chemical amplification type resist composition contains as a photoacid generator a sulfonyldiazomethane compound of the formula (1): wherein R1 is C1-10 alkyl or C6-14 aryl, R2 is C1-6 alkyl, G is SO2 or CO, R3 is C1-10 alkyl or C6-14 aryl, p is an integer of 0 to 4, q is an integer of 1 to 5, 1≦p+q≦5, n is 1 or 2, m is 0 or 1, and n+m=2. The composition is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.

  一种化学放大型光阻组合物包含一种磺酰基重氮甲烷化合物作为光酸发生剂，其化学式为（1）：其中R1为C1-10烷基或C6-14芳基，R2为C1-6烷基，G为SO2或CO，R3为C1-10烷基或C6-14芳基，p为0至4的整数，q为1至5的整数，1≤p+q≤5，n为1或2，m为0或1，且n+m=2。该组合物适用于微纳加工，特别是深紫外光刻，因为具有许多优点，包括提高分辨率，即使在长期PED上也可以最小化线宽变化或形状退化，涂覆、显影和剥离后最小化碎片，并提高开发后的图案轮廓。
• 3-Aryluracile und deren Verwendung zur Unkrautbekämpfung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0255047A1

  公开（公告）日：1988-02-03

  Die Erfindung betrifft neue 3-Aryluracile der Formel worin R¹, R², R³, R⁴, R⁵ und R⁶ die in der Beschreibung angegebenen Bedeutungen besitzen, sowie Salze davon und deren Herstellung, Unkrautbekämpfungsmittel, die solche Verbindungen als Wirkstoffe enthalten und die Ver­wendung der Wirkstoffe bzw. Mittel zur Unkrautbekämpfung. Die Erfindung betrifft ebenfalls herbizid wirksame Ausgangs­materialien und diese enthaltende Unkrautbekämpfungsmittel.

  本发明涉及新的 3-芳基脲，其式为 其中R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶具有说明中给出的含义，以及它们的盐和它们的制备方法、含有这些化合物作为活性成分的除草剂和这些活性成分或除草剂在除草中的用途。本发明还涉及除草活性起始材料和含有这些起始材料的除草剂。