1,3-bis(hydroxyimino)isoindoline | 4741-70-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: 1,3-bis(hydroxyimino)isoindoline
• 英文别名: isoindoline-1,3-dione dioxime
• CAS: 4741-70-2
• 化学式: C₈H₇N₃O₂
• 分子量: 177.162
• InChiKey: JUJLFTUMBSTTJT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.56
• 重原子数：
  13.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  77.21
• 氢给体数：
  3.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3-二亚胺基异吲哚啉 在 盐酸羟胺 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 以96%的产率得到1,3-bis(hydroxyimino)isoindoline
  参考文献：
  名称：

  The structures of several modified isoindolines, the building blocks of phthalocyanines

  摘要：

  本报告展示了几种取代的异吲哚啉的单晶 X 射线结构，这些异吲哚啉经常被用作酞菁、酞菁类似物和相关螯合物的起始材料。报告了 1,3-二亚氨基异吲哚啉 (1)、1,3-双（羟基亚氨基）异吲哚啉 (2)、1,4-二氨基酞嗪 (3)、1,1,3-三氯异吲哚啉 (4) 和 3-亚氨基-1-氧代异吲哚啉 (5) 的结构；化合物 2 和 3 由二亚氨基异吲哚啉 (1) 合成，化合物 4 和 5 由邻苯二甲酰亚胺生成。所有五个化合物都是平面大环，双键的定位很容易确定。我们在低温下阐明了 1 的一个已知结构，并观察到 1 的另外两个新结构。对于 1 和化合物 2、3 和 5 的晶体形式，我们观察到了固态下的氢键。化合物 1、2 和 3 在固态下形成扩展的氢键阵列，而化合物 5 则形成离散的氢键二聚体。

  DOI：

  10.1142/s1088424613500107

文献信息

• STABILIZATION OF HYDROXYLAMINE CONTAINING SOLUTIONS AND METHOD FOR THEIR PREPARATION
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090112024A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  The invention relates to the use of amidoximes for prevention of or stabilization of hydroxylamine compounds against undesired decomposition.

  本发明涉及将酰胺肟用于预防或稳定羟基胺化合物，防止其不受控分解。
• NOVEL NITRILE AND AMIDOXIME COMPOUNDS AND METHODS OF PREPARATION
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090111965A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  The present application relates to semiconductor processing compositions comprising at least one compound containing at least one amidoxime functional group and to methods of using these compositions in semiconductor processing. The present application also describes the preparation of amidoximes for a semiconductor processing composition by (a) mixing a cyanoethylation catalyst, a nucleophile and an alpha-unsaturated nitrile to produce a cyanoethylation product; and (b) converting a cyano group in the cyanoethylation product into an amidoxime functional group.

  本申请涉及包含至少一个含有至少一个酰胺肟功能团的化合物的半导体加工组合物，以及使用这些组合物进行半导体加工的方法。本申请还描述了通过(a)混合氰乙基化催化剂、亲核试剂和不饱和α腈以产生氰乙基化产品；(b)将氰乙基化产品中的氰基团转化为酰胺肟功能团来制备用于半导体加工组合物的酰胺肟的方法。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• PROCESS OF PURIFICATION OF AMIDOXIME CONTAINING CLEANING SOLUTIONS AND THEIR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105594A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The invention relates to processes for producing and using amidoxime compounds with low trace metal impurities. The invention further relates to compositions comprising amidoxime compounds with low trace metal impurities, such compositions useful for cleaning or removing residues from semiconductor substrates and/or equipment.

  本发明涉及生产和使用低微量金属杂质的酰胺肟化合物的方法。本发明还涉及包含低微量金属杂质的酰胺肟化合物的组合物，这种组合物可用于清洁或去除半导体基板和/或设备中的残留物。