1,2,4-tri(2-hydroxyisopropyl)benzene | 2225-30-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,2,4-tri(2-hydroxyisopropyl)benzene
• 英文别名: 1,2,4-trishydroxyisobutyl-benzene；2-[3,4-Bis(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]propan-2-ol
• CAS: 2225-30-1
• 化学式: C₁₅H₂₄O₃
• 分子量: 252.354
• InChiKey: DRZOOMANMBUNIG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-3-丁炔-2-醇 在 (((3-hydroxypropyl)carbonylcyclopentadienyl)cobalt)-η⁴-cyclooctadiene 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 以28%的产率得到alpha,alpha,alpha',alpha',alpha'',alpha''-六甲基苯-1,3,5-三甲醇
  参考文献：
  名称：

  钴催化炔烃在水溶液中的环三聚反应

  摘要：

  华盛顿州立大学化学系 P.O. Box 644630, Pullman, Washington 99164-4630NeXstar Pharmaceuticals, 2860 Wilderness PlaceBoulder, Colorado 80301 收到，1998 年 3 月 5 日许多用于组装环状有机分子的最有用的方法涉及过渡金属催化的环加成。由于芳环是许多生物、药物和聚合物分子的核心，因此炔烃环三聚是一种重要的方法。Vollhardt 是第一个意识到钴催化环三聚在有机合成中的潜力的人。

  DOI：

  10.1021/ja9807284

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• The effect of the oxidation state of molybdenum complexes on the catalytic transformation of terminal alkynes: Cyclotrimerization vs. polymerization
  作者：Izabela Czeluśniak、Paulina Kocięcka、Teresa Szymańska-Buzar

  DOI：10.1016/j.jorganchem.2012.05.044

  日期：2012.10

  of molybdenum(0) and molybdenum(II) carbonyl complexes (Mo(CO)6/hv, [Mo(CO)4(pip)2] (pip = piperidine), [Mo(CO)4(pip)2]/SnCl4, [Rpip]2[(μ-Cl)Mo(μ-Cl)(SnCl3)(CO)3}2] (R = C3H5, H)) lead to the formation of cyclotrimerization and polymerization products, which were characterized by chromatography (GC–MS, GPC) and by 1H and 13C NMR spectroscopy. The effect of the oxidation state of the molybdenum catalyst

  单取代的炔烃（PhC≡CH，的反应吨BuC≡CH，Ñ BuC≡CH，HOCH 2 C≡CH，HO（CH 3）2中的钼（0）和钼的存在CC≡CH）（II）羰基配合物（Mo（CO）6 / hv，[Mo（CO）4（pip）2 ]（pip =哌啶），[Mo（CO）4（pip）2 ] / SnCl 4，[Rpip] 2 [（μ- Cl）Mo（μ-Cl）（SnCl 3）（CO）3 } 2 ]（R = C 3 H 5，H））导致形成环三聚和聚合产物，这些产物通过色谱法（GC-MS，GPC）以及1 H和13 C NMR光谱进行表征。观察到钼催化剂的氧化态对末端炔的转化的影响：环三聚与聚合。仅钼（II）配合物会导致多烯聚合物的形成。此外，由[Mo（CO）4（pip）2 ]引发的丙-2-炔-1-醇在二氯甲烷中的反应导致形成含有亚乙烯基单元的低聚物。机理核磁共振研究显示，η 2-炔烃复合物的形成是钼络合物催化的炔烃所有转化的主要特征。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• RESIST COMPOSITION
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

  公开号：EP1739485A1

  公开（公告）日：2007-01-03

  A radiation-sensitive composition containing a resist compound A, an acid generator B, and an acid crosslinking agent C. The resist compound A is (a) a polyphenol compound which is produced by the condensation of a C5-45 aromatic ketone or aromatic aldehyde with a C6-15 compound having from 1 to 3 phenolic hydroxyl groups, and, (b) its molecular weight is form 300 to 5000. The radiation-sensitive composition is solvent-soluble and exhibits a high sensitivity, high resolution, and high heat resistance.

  抗蚀剂化合物 A 是：(a) 一种多酚化合物，由 C5-45 芳香酮或芳香醛与具有 1 至 3 个酚羟基的 C6-15 化合物缩合而成；(b) 其分子量为 300 至 5000。辐射敏感组合物可溶于溶剂，具有高灵敏度、高分辨率和高耐热性。