N-methoxy-2-methylpyridinium tosylate | 25985-99-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-methoxy-2-methylpyridinium tosylate
• 英文别名: 1-methoxy-2-methyl-pyridinium; toluene-4-sulfonate；1-Methoxy-2-methyl-pyridinium; Toluol-4-sulfonat；1-Methoxy-2-methylpyridin-1-ium;4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 25985-99-3
• 化学式: C₇H₇O₃S*C₇H₁₀NO
• 分子量: 295.359
• InChiKey: VVVGYLBJHAFVPQ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.24
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.21
• 拓扑面积：
  78.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methyl phenylphosphinate 、 N-methoxy-2-methylpyridinium tosylate 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 0.08h， 以73%的产率得到methyl phenyl(6-methyl-2-pyridyl)phosphinate
  参考文献：
  名称：

  N-甲氧基吡啶鎓甲苯磺酸盐的亲核芳香取代合成2-吡啶基次膦酸盐和硫代次膦酸盐衍生物

  摘要：

  我们开发了一种基于 N-甲氧基吡啶鎓盐的亲核芳族取代合成 2-吡啶基次膦酸酯衍生物的简单且经济有效的方法。方法...

  DOI：

  10.1246/cl.2012.1630
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基吡啶氧化物 、 对甲苯磺酸甲酯 以 甲苯 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 N-methoxy-2-methylpyridinium tosylate
  参考文献：
  名称：

  N-甲氧基吡啶鎓甲苯磺酸盐的亲核芳香取代合成2-吡啶基次膦酸盐和硫代次膦酸盐衍生物

  摘要：

  我们开发了一种基于 N-甲氧基吡啶鎓盐的亲核芳族取代合成 2-吡啶基次膦酸酯衍生物的简单且经济有效的方法。方法...

  DOI：

  10.1246/cl.2012.1630

文献信息

• A xanthene derivative, a production process of the same and a composite for giving an image which includes the same
  申请人：HODOGAYA CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0184114A1

  公开（公告）日：1986-06-11

  @ This invention relates to a xanthene derivative that develops colour on oxidation, so that it is favorably used for a photoresist, a PS plate or a proofing agent. The xanthene derivative, which has the following structural formula (I), is produced by putting a fluoran derivative represented by the following structural formula (II) to an esterification reaction and then to a reduction reaction. and In the above formulae R1 and R2 independently stand for hydrogen, an alkyl radical with 1 to 8 carbon atoms, a tetrahydrofurfuryl radical, a substituted or an unsubstituted phenyl radical, a substituted or an unsubstituted benzyl radical or a cyclic alkyl radical; in addition, R1 and R2 are able to form a ring in pairs. R3 and R6 independently stand for hydrogen, chlorine, fluorine, a lower alkyl radical or a lower alkoxy radical. R4 and R5 independently stand for hydrogen. chlorine, fluorine, a lower alkyl radical, a lower alkoxy radical, a lower alkoxyalkyl radical, a substituted or an unsubstituted phenyl radical, a substituted or an unsubstituted benzyl radical, an amino radical, a N-substituted or N,N-substituted amino radical or a cyclic alkyl radical; in addition, R3 and R4, R4 and R6, and R5 and R6 are able to form a ring in pairs respectively. R7 stands for an alkyl radical, a substituted or an unsubstituted phenyl radical or a substituted or an unsubstituted benzyl radical. X stands for hydrogen, chlorine, fluorine, bromine, a nitro radical, a lower alkyl radical or a lower alkylamino radical; and n stands for an integer from 1 to 4 inclusive.

  本发明涉及一种可在氧化时显色的氧杂蒽衍生物，因此可用于光刻胶、PS 版或打样剂。这种具有以下结构式（I）的氧杂蒽衍生物是通过将由以下结构式（II）表示的芴衍生物进行酯化反应，然后再进行还原反应制得的。 和 在上式中，R1 和 R2 分别代表氢、1 至 8 个碳原子的烷基、四氢呋喃基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的苄基或环状烷基；此外，R1 和 R2 可成对形成环。R3 和 R6 分别代表氢、氯、氟、低级烷基或低级烷氧基。R4 和 R5 分别代表氢、氯、氟、低级烷基、低级烷氧基、低级烷氧基烷基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的苄基、氨基、N-取代的或 此外，R3 和 R4、R4 和 R6 以及 R5 和 R6 可分别成对形成一个环。R7 代表烷基、取代或未取代的苯基或取代或未取代的苄基。X 代表氢、氯、氟、溴、硝基、低级烷基或低级烷基氨基；n 代表 1 至 4（包括 4）的整数。
• Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien sowie Photoresistschichten und Flachdruckplatten auf Basis dieser Aufzeichnungsmaterialien sowie neue Chinazolon-4-Verbindungen
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0291879A1

  公开（公告）日：1988-11-23

  Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien mit mindestens einer photopolymerisierbaren, olefinisch ungesättigten organischen Verbindung, gegebenenfalls einem polymeren Bindemittel, einem Photopolymerisations­initiator, einem farbbildenden System aus einem Farbbildner und einem Photooxidationsmittel, einem Sensibilisator sowie gegebenenfalls weiteren Zusatz- und/oder Hilfsstoffen, enthalten als Sensibilisator bestimmte Chinazolon-4-Verbindungen. Diese photopolymerisierbaren Aufzeichungsmaterialien eignen sich insbesondere zur Herstellung von Photoresistschichten und Flachdruckplatten.

  可光聚合记录材料含有至少一种可光聚合的烯烃不饱和有机化合物、可选的聚合物粘合剂、光聚合引发剂、由显色剂和光氧化剂组成的显色体系、感光剂以及可选的其他添加剂和/或辅助物质，其中含有某些喹唑啉-4 化合物作为感光剂。 这些可光聚合记录材料特别适用于生产光刻胶层和平面印刷板。
• Strahlungsempfindliches, positiv arbeitendes Gemisch
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0414100A2

  公开（公告）日：1991-02-27

  Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches, positiv arbeitendes Gemisch, das besteht aus (a) einem Harnstoff- und Urethangruppen enthaltenden ethylenisch ungesättigten Umsetzungsprodukt, (b) mindestens einer eine oder mehrere Carboxylgruppen enthaltenden organischen Verbindung, (c) gegebenenfalls einem Photoinititator oder Photoinitiatorsystem sowie (d) gegebenenfalls weiteren Zusatz- und Hilfsstoffen.

  本发明涉及一种对辐射敏感的正工作混合物，由以下成分组成 (a) 含有脲和氨基甲酸乙酯基团的乙烯不饱和反应产物、 (b) 至少一种含有一个或多个羧基的有机化合物、 (c) 可选的光引发剂或光引发剂体系 以及 (d) 可选的进一步添加剂和辅助物质。
• Harnstoff- und Carboxylgruppen enthaltendes Umsetzungsprodukt, Verfahren zu dessen Herstellung und damit herstellbares strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0415175A2

  公开（公告）日：1991-03-06

  Die Erfindung betrifft neue Harnstoff- und Carboxylgruppen enthaltende Umsetzungsprodukte, die durch Umsetzung von i) einem Di- oder Polyisocyanat mit ii) mindestens einer Aminoverbindung und iii) mindestens einem Säureanhydrid einer mindestens zweiwertigen Carbonsäure, sowie gegebenenfalls iv) einer von Komponente ii) verschiedenen Verbindung mit Hydroxyl- oder Aminogruppe, wobei die Summe der NCO- und Anhydridgruppen in i) und iii) kleiner oder gleich der Zahl der damit reaktiven Gruppen in ii) und iv) ist, erhalten worden ist. Dieses Umsetzungsprodukt eignet sich zur Herstellung strahlungsempfindlicher Zusammensetzungen, insbesondere solcher Zusammensetzungen, deren Löslichkeit in Nasser oder wäßrig-alkalischer Lösung durch Bestrahlung zunimmt.

  本发明涉及含有脲基和羧基的新反应产物，它们是通过以下反应得到的 i) 二异氰酸酯或多异氰酸酯 与 ii) 至少一种氨基化合物 和 iii) 至少一种二价羧酸的酸酐、 以及 iv) 成分 ii) 以外的具有羟基或氨基的化合物、 其中 i) 和 iii) 中的 NCO 和酸酐基团之和小于或等于 ii) 和 iv) 中与之反应的基团数目、 的反应产物。 这种反应产物适用于制备对辐射敏感的组合物，尤其是在湿溶液或碱性水溶液中的溶解度会因辐照而增加的组合物。
• Umsetzungsprodukt, Verfahren zu dessen Herstellung und damit erhaltenes strahlungsempfindliches material
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0414099A2

  公开（公告）日：1991-02-27

  Die Erfindung betrifft ein Harnstoff- und Urethangruppen sowie Carboxyl­gruppen enthaltendes Umsetzungsprodukt, das durch Umsetzung von i) einem ein- oder mehrfach ethylenisch ungesättigten Mono- oder Polyalkohol mit ii) einem Di- oder Polyisocyanat, iii) mindestens einer Aminoverbindung und iv) mindestens einem Säureanhydrid einer mindestens zweiwertigen Carbonsäure, wobei die Summe der NCO- und Anhydridgruppen in ii) und iv) kleiner oder gleich der Zahl der damit reaktiven Gruppen in i) und iii) ist, erhalten worden ist. Dieses Umsetzungsprodukt eignet sich zur Herstellung strahlungs­empfindlicher Materialien, insbesondere solcher Materialien, deren Löslichkeit in Wasser oder wäßrig-alkalischen Lösungen durch Bestrahlung zunimmt.

  本发明涉及一种含有脲基、氨基甲酸酯基和羧基的反应产物，该反应产物通过以下反应获得 i) 单乙烯基或多乙烯基不饱和一元醇或多元醇 与 ii) 二异氰酸酯或多异氰酸酯、 iii) 至少一种氨基化合物 和 iv) 至少一种二价羧酸的酸酐、 其中 ii) 和 iv) 中的 NCO 和酸酐基团之和小于或等于 i) 和 iii) 中与之反应的基团数、 的反应产物。 这种反应产物适用于制备对辐射敏感的材料，特别是在水或碱性水溶液中的溶解度会因辐照而增加的材料。