摘要:
提供了具有以下式子的取代二氧兰:##STR1##
其中,R1和R2为H或苯基,该苯基被低烷基或硝基的高达5个取代基所取代,但至少有一个F1和R2是具有一个邻硝基取代基的苯基;R3和R4均为H或低烷基。这些二氧兰以及适当的二氧杂环烷被用于插层聚甲醛聚合物,以使得该聚合物具有热稳定但光化学敏感和可降解的随机连接##STR2##在链中,其中n为0或1,R3和R4为H或低烷基,至少有一个R1和R2是具有邻硝基取代基的苯基。通过将聚合物的薄膜暴露在透明度下的光线下,然后加热或用碱进行加热处理,可以获得透明度上的复制品的浮雕图像。