oxidation of benzylic positions is quite general and proceeds efficiently in fluorobenzene/DMSO (2:1) or DMSO at 80 -90 °C. The reaction is not affected by the presence of water (entry 3), o-substituents (entries 4, 9, 11, 14, 17), or the presence of halogens (entries 5, 6). Over-oxidation to the corresponding carboxylic acid was not observed even in the presence of electron-rich substrates (entry 7). n-Butylbenzene
接收日期 2000 年 12 月 5 日 最近这些实验室报告了许多基于高
碘烷试剂
DMP 和 IBX 反应性的新合成技术。1 这些反应包括 IBX 诱导的不饱和
苯胺的环化(图 1A),1b 其单电子转移(
SET)机制最近被阐明,2 以及在羰基旁边引入不饱和基团,1d 现在也被认为是进行类推,通过
SET 机制(图 1B)。基于这些机械原理,我们假设 IBX 可以通过
SET 机制氧化苄基位置,如图 1C 所示。如果有选择性且易于控制,鉴于潜在底物的易得性和稳定性以及相应氧化产物的广泛用途,这种方法可能是有机合成中的一种有价值的工具。4 在此,我们报告了这种过程的实现、范围和一般性,并证明了基于简单修改反应条件的 IBX 介导过程的显着
化学选择性。如表 1 所示,IBX 诱导的苄基位置氧化非常普遍,并且在 80 -90 °C 的
氟苯/
DMSO (2:1) 或
DMSO 中有效进行。该反应不受
水(条目