tetrahydro-2H-pyran-2-yl 1-naphthoate | 1620767-20-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: tetrahydro-2H-pyran-2-yl 1-naphthoate
• 英文别名: Oxan-2-yl naphthalene-1-carboxylate
• CAS: 1620767-20-5
• 化学式: C₁₆H₁₆O₃
• 分子量: 256.301
• InChiKey: FVPFCNKPBOLQGR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.31
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四氢吡喃 、 1-萘甲醛 在 叔丁基过氧化氢 、 copper(II) acetate monohydrate 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 24.0h， 以75%的产率得到tetrahydro-2H-pyran-2-yl 1-naphthoate
  参考文献：
  名称：

  铜通过醛和醚的氧化交叉偶联反应催化形成C–O键†

  摘要：

  通过在空气中进行醛和醚的氧化交叉偶联反应，可实现一种实用，有效的C-O键结构。当使用2mol％的铜作为催化剂时，以高达93％的分离产率获得了各种α-酰氧基醚。

  DOI：

  10.1039/c4ob00862f

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO., LTD.

  公开号：EP0789278A2

  公开（公告）日：1997-08-13

  A radiation-sensitive resin composition including (A) a resin containing an alicyclic skeleton in its backbone, and (B) a radiation-sensitive acid-generating agent, is provided. This composition is excellent in transparency with respect to radiation and dry etching resistance, and can give a photoresist pattern excellent in adhesion to substrates, sensitivity, resolution, and developability.

  本发明提供了一种辐射敏感树脂组合物，其中包括 (A) 主干中含有脂环族骨架的树脂和 (B) 辐射敏感酸生成剂。这种组合物在抗辐射和抗干蚀刻方面具有极佳的透明度，并能产生对基底具有极佳附着力、灵敏度、分辨率和显影性的光刻胶图案。
• US6692887B1
  申请人：——

  公开号：US6692887B1

  公开（公告）日：2004-02-17
• US6727032B1
  申请人：——

  公开号：US6727032B1

  公开（公告）日：2004-04-27