摘要:
本发明的新型碲化合物的化学式为:TeR.sup.1 R.sup.2,其中R.sup.1是一种氟化烷基,其化学式为C.sub.n F.sub.(2n+1)-x H.sub.x,其中n可以在1到6之间变化,x可以在0到2n之间变化;而R.sup.2则从以下组中选择:碳数为2到6的烷基、碳数为3到6的环烷基、烯丙基、碳数为4到6的烷基取代烯丙基、环戊二烯基、苄基、α-甲基苄基和双(α-甲基)苄基。这些新型碲试剂可用作有机金属气相沉积过程的来源,特别是II-VI半导体材料(如Hg.sub.x Cd.sub.1-x Te)的MOCVD制造。这些化合物是通过Te(R.sup.1).sub.2和Te(R.sup.2).sub.2之间的高收率配体交换反应合成的。