trifluoromethyl(benzyl)tellurium | 142799-33-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: trifluoromethyl(benzyl)tellurium
• 英文别名: trifluoromethyltellanylmethylbenzene
• CAS: 142799-33-5
• 化学式: C₈H₇F₃Te
• 分子量: 287.739
• InChiKey: WIZCFELQOXZRHH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.41
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  dibenzyl telluride 、 bis(trifluoromethyl)tellurium 反应 65.0h， 生成 trifluoromethyl(benzyl)tellurium
  参考文献：
  名称：

  Organometallic tellurium compounds useful in chemical vapor deposition

  摘要：

  本发明的新型碲化合物的化学式为：TeR.sup.1 R.sup.2，其中R.sup.1是一种氟化烷基，其化学式为C.sub.n F.sub.(2n+1)-x H.sub.x，其中n可以在1到6之间变化，x可以在0到2n之间变化；而R.sup.2则从以下组中选择：碳数为2到6的烷基、碳数为3到6的环烷基、烯丙基、碳数为4到6的烷基取代烯丙基、环戊二烯基、苄基、α-甲基苄基和双(α-甲基)苄基。这些新型碲试剂可用作有机金属气相沉积过程的来源，特别是II-VI半导体材料（如Hg.sub.x Cd.sub.1-x Te）的MOCVD制造。这些化合物是通过Te(R.sup.1).sub.2和Te(R.sup.2).sub.2之间的高收率配体交换反应合成的。

  公开号：

  US05312983A1

文献信息

• Organometallic tellurium compounds useful in chemical vapor deposition
  申请人：Advanced Technology Materials, Inc.

  公开号：US05312983A1

  公开（公告）日：1994-05-17

  Novel tellurium compounds of the present invention have the formula: TeR.sup.1 R.sup.2 wherein R.sup.1 is a fluorinated alkyl having the formula C.sub.n F.sub.(2n+1)-x H.sub.x where n may range from 1 to 6 and x may range from 0 to 2n, and R.sup.2 is selected from the group consisting of alkyls having 2 to 6 carbon atoms, cycloalkyls having 3 to 6 carbon atoms, allyl, alkyl-substituted allyl having 4 to 6 carbon atoms, cyclopentadienyl, benzyl, alpha-methylbenzyl, and bis(alpha-methyl)benzyl. The novel tellurium reagents are useful as sources for organometallic vapor deposition processes, particularly the MOCVD fabrication of II-VI semiconductor materials such as Hg.sub.x Cd.sub.1-x Te. The compounds are synthesized by high yield ligand exchange reactions between Te(R.sup.1).sub.2 and Te(R.sup.2).sub.2.

  本发明的新型碲化合物的化学式为：TeR.sup.1 R.sup.2，其中R.sup.1是一种氟化烷基，其化学式为C.sub.n F.sub.(2n+1)-x H.sub.x，其中n可以在1到6之间变化，x可以在0到2n之间变化；而R.sup.2则从以下组中选择：碳数为2到6的烷基、碳数为3到6的环烷基、烯丙基、碳数为4到6的烷基取代烯丙基、环戊二烯基、苄基、α-甲基苄基和双(α-甲基)苄基。这些新型碲试剂可用作有机金属气相沉积过程的来源，特别是II-VI半导体材料（如Hg.sub.x Cd.sub.1-x Te）的MOCVD制造。这些化合物是通过Te(R.sup.1).sub.2和Te(R.sup.2).sub.2之间的高收率配体交换反应合成的。