Amidoxime-Containing Zr and Hf Atomic Layer Deposition Precursors for Metal Oxide Thin Films
作者:Ga Yeon Lee、Seung-Hun Lee、In Ho Jo、Chan-Mi Cho、Svetlana Shostak、Ji Yeon Ryu、Bo Keun Park、Seung Uk Son、Cheol Ho Choi、Taeyong Eom、Jeong Hwan Kim、Taek-Mo Chung
DOI:10.1021/acs.inorgchem.3c03455
日期:2024.1.8
N-dimethylpivalimidamide (tdaoH), along with their Zr and Hf homoleptic complexes, Zr(mdao)4 (1), Hf(mdao)4 (2), Zr(tdao)4 (3), and Hf(tdao)4 (4) were prepared. We further synthesized heteroleptic compounds with different physical properties by introducing cyclopentadienyl (Cp) ligand, namely, CpZr(mdao)3 (5), CpHf(mdao)3 (6), CpZr(tdao)3 (7), and CpHf(tdao)3 (8). Thermogravimetric analysis was used for
在本文中,我们讨论了八种含有偕胺肟配体的新型锆和铪络合物的合成,作为原子层沉积(ALD)的潜在前体。两种偕胺肟,即( E ) -N'-羟基-N , N-二甲基乙脒 (mdaoH) 和 ( Z ) -N'-羟基-N , N-二甲基新戊肟 (tdaoH),以及它们的 Zr 和 Hf 均配配合物制备Zr(mdao) 4 ( 1 )、Hf(mdao) 4 ( 2 )、Zr(tdao) 4 ( 3 )和Hf(tdao) 4 ( 4 )。通过引入环戊二烯基(Cp)配体,我们进一步合成了具有不同物理性质的杂配化合物,即CpZr(mdao) 3 ( 5 )、CpHf(mdao) 3 ( 6 )、CpZr(tdao) 3 ( 7 )和CpHf(tdao) ) 3 ( 8 )。热重分析用于评估配合物1 、 2 、 5和6的蒸发特性,结果显示多步重量损失和高残留量。另一方面,包含tdao配体的配合物3、4、7和