2-Propenoic acid, 2-chloro-, 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl ester | 111099-76-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Propenoic acid, 2-chloro-, 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl ester
• 英文别名: (2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl) 2-chloroprop-2-enoate
• CAS: 111099-76-4
• 化学式: C₁₁H₈ClF₃O₂
• 分子量: 264.63
• InChiKey: FVMNWFZIGIKNKW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Propenoic acid, 2-chloro-, 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl ester 、 甲基丙烯腈 、 偶氮二异丁腈 在 甲醇 作用下， 以 苯 为溶剂， 反应 20.0h， 以to obtain a 1-phenyl-2,2,2-trifluoroethyl α-chloroacrylate/methacrylnitrile copolymer的产率得到1-Phenyl-2,2,2-trifluoroethyl alpha-chloroacrylate methacrylnitrile
  参考文献：
  名称：

  A method of image-wise exposing and developing halogen-containing

  摘要：

  具有以下式子的含卤基聚丙烯酸酯衍生物：##STR1## 其中A是来源于可共聚单体的双键的结构单元; R是 ##STR2## 其中R.sub.1和R.sub.2中的每一个都是氢原子或氟甲基基团，只要R.sub.1和R.sub.2不同时是氢原子，而R.sub.3是氢原子或低碳基基团; X是卤素原子或甲基基团; m是正整数，n是0或正整数，n/m从0到2，最好从0到1。还公开了使用含卤基聚丙烯酸酯衍生物作为抗蚀材料形成抗蚀图案的方法。

  公开号：

  US04822721A1

文献信息

• Halogen-containing polyacrylate derivatives
  申请人：Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd.

  公开号：US04752635A1

  公开（公告）日：1988-06-21

  A halogen-containing polyacrylate derivative having the formula: ##STR1## wherein A is a structural unit derived from a copolymerizable monomer having a double bond; R is ##STR2## wherein each of R.sub.1 and R.sub.2 is a hydrogen atom or a fluorinated methyl group, provided R.sub.1 and R.sub.2 are not hydrogen atoms at the same time, and R.sub.3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group; X is a halogen atom or a methyl group; and m is a positive integer, n is 0 or a positive integer, and n/m is from 0 to 2, preferably from 0 to 1.

  具有以下公式的含卤聚丙烯酸酯衍生物：##STR1## 其中A是来自可共聚单体具有双键的结构单元；R是##STR2## 其中R.sub.1和R.sub.2中的每一个是氢原子或氟代甲基基团，但R.sub.1和R.sub.2不能同时为氢原子，而R.sub.3是氢原子或低烷基基团；X是卤原子或甲基基团；m是正整数，n为0或正整数，且n/m在0到2之间，最好在0到1之间。
• JPS63234006A
  申请人：——

  公开号：JPS63234006A

  公开（公告）日：1988-09-29
• US4752635A
  申请人：——

  公开号：US4752635A

  公开（公告）日：1988-06-21
• US4822721A
  申请人：——

  公开号：US4822721A

  公开（公告）日：1989-04-18
• A method of image-wise exposing and developing halogen-containing
  申请人：Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd.

  公开号：US04822721A1

  公开（公告）日：1989-04-18

  Halogen-containing polyacrylate derivatives having the formula: ##STR1## wherein A is a structural unit derived from a copolymeriazable monomer having a double bond; R is ##STR2## wherein each of R.sub.1 and R.sub.2 is a hydrogen atom or a fluorinated methyl group, provided R.sub.1 and R.sub.2 are not hydrogen atoms at the same time, and R.sub.3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group; X is a halogen atom or a methyl group; and m is a positive integer, n is 0 or a positive integer, and n/m from 0 to 2, preferably from 0 to 1 are disclosed. Also disclosed are methods for forming a resist pattern by using the halogen-containing polyacrylate derivatives as a resist material.

  具有以下式子的含卤基聚丙烯酸酯衍生物：##STR1## 其中A是来源于可共聚单体的双键的结构单元; R是 ##STR2## 其中R.sub.1和R.sub.2中的每一个都是氢原子或氟甲基基团，只要R.sub.1和R.sub.2不同时是氢原子，而R.sub.3是氢原子或低碳基基团; X是卤素原子或甲基基团; m是正整数，n是0或正整数，n/m从0到2，最好从0到1。还公开了使用含卤基聚丙烯酸酯衍生物作为抗蚀材料形成抗蚀图案的方法。