acrylic acid 9H-fluoren-9-yl ester | 73048-23-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 英文名称: acrylic acid 9H-fluoren-9-yl ester
• 英文别名: 9H-fluoren-9-yl prop-2-enoate
• CAS: 73048-23-4
• 化学式: C₁₆H₁₂O₂
• 分子量: 236.27
• InChiKey: FNCISWPAFZLKRL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  370.4±31.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.20±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  9-羟基芴 、 丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 2-甲基四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 acrylic acid 9H-fluoren-9-yl ester
  参考文献：
  名称：

  [EN] OPTICAL FILMS COMPRISING FLUORENOL (METH)ACRYLATE MONOMER
  [FR] FILMS OPTIQUES À BASE DE MONOMÈRE DE (MÉTH)ACRYLATE DE FLUORÉNOL

  摘要：

  微结构光学薄膜和聚合物树脂组合物，包含至少一个含有至少两个可聚合（甲基）丙烯酸酯基团的芳香族单体或寡聚体和一种芴酚（甲基）丙烯酸酯单体。

  公开号：

  WO2009134594A1

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, MONOMER, AND COPOLYMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20130309606A1

  公开（公告）日：2013-11-21

  A polymer is obtained from copolymerization of a recurring unit having a carboxyl and/or phenolic hydroxyl group substituted with an acid labile group and a recurring unit having formula (1) wherein R 1 is methyl, ethyl, propyl, methoxy, ethoxy or propoxy, R 2 is H or CH 3 , and m is 1 to 4. The polymer is used as a base resin to formulate a resist composition, which is improved in contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, acid diffusion control, resolution, and profile and edge roughness of a pattern after exposure.

  一种聚合物是通过共聚反应获得的，其中具有羧酸和/或酚羟基的重复单元被取代为酸易裂解基团，而具有公式（1）的重复单元的R1为甲基，乙基，丙基，甲氧基，乙氧基或丙氧基，R2为H或CH3，m为1到4。该聚合物用作基础树脂来制备抗蚀剂组合物，该组合物在曝光前后的碱溶解速率对比、酸扩散控制、分辨率以及曝光后图案的轮廓和边缘粗糙度方面得到改善。
• OPTICAL FILMS COMPRISING FLUORENOL (METH)ACRYLATE MONOMER
  申请人：Hunt Bryan V.

  公开号：US20090270576A1

  公开（公告）日：2009-10-29

  Microstructured optical films and polymerizable resin compositions comprising at one aromatic monomer or oligomer having at least two polymerizable (meth)acrylate groups and a fluorenol (meth)acrylate monomer.

  微结构光学薄膜和聚合物树脂组合物，包括至少含有两个可聚合（甲基）丙烯酸酯基团的芳香单体或寡聚物和一种芴酚（甲基）丙烯酸酯单体。
• Optical films comprising fluorenol (meth)acrylate monomer
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：US07981986B2

  公开（公告）日：2011-07-19

  Microstructured optical films and polymerizable resin compositions comprising at one aromatic monomer or oligomer having at least two polymerizable (meth)acrylate groups and a fluorenol (meth)acrylate monomer.

  微结构光学薄膜和可聚合树脂组成物，包括至少一个芳香族单体或寡聚物，具有至少两个可聚合（甲基）丙烯酸酯基团和芴酚（甲基）丙烯酸酯单体。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20100227274A1

  公开（公告）日：2010-09-09

  A positive resist composition comprising as a base resin a polymer having carboxyl groups whose hydrogen is substituted by an acid labile group of fluorene structure exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good pattern profile and minimal LER after exposure, a significant effect of suppressing acid diffusion rate, and improved etching resistance.

  一种正性光刻胶组合物，包括以羧基团为基础的树脂，该树脂具有氢被芴结构的酸敏感基团取代的羧基团，其在曝光前后表现出高对比度的碱性溶解速率、高分辨率、良好的图案轮廓和曝光后极小的LER，具有显著抑制酸扩散速率的效果，并提高了蚀刻抗性。