环己基铵氟化物 | 26593-77-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 环己基铵氟化物
• 英文名称: cyclohexylamine hydrofluoride
• 英文别名: cyclohexylamine * HF；Cyclohexylammonium fluoride；cyclohexanamine;hydron;fluoride
• CAS: 26593-77-1
• 化学式: C₆H₁₄N*F
• 分子量: 119.182
• InChiKey: FVPCNTIZTYPTAZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.43
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2921300090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  环己胺 在 氢氟酸 作用下， 生成 环己基铵氟化物
  参考文献：
  名称：

  Reactions of primary and secondary amines with fluoronitrene generated from isopropyl N,N-difluorocarbamate

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01297a027
• 作为试剂：
  描述：

  4-chloro-2,2,6,6-tetramethyl-4-(trimethylsilanyl-methyl)-2,4,6-trisila-heptane 在 环己基铵氟化物 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 生成 Tris-(trimethylsilylmethyl)-fluorsilan
  参考文献：
  名称：

  Reactivity studies of bridgehead organosilicon compounds with nucleophilic reagents

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00804a026

文献信息

• Verfahren zur Herstellung von Isocyanuratgruppen aufweisenden Polyisocyanaten
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0339396A1

  公开（公告）日：1989-11-02

  Ein neues Verfahren zur Herstellung von Isocyanuratgrup­pen aufweisenden Polyisocyanaten mit aliphatisch und/­oder cycloaliphatisch gebundenen Isocyanatgruppen durch Trimerisierung eines Teils der Isocyanatgruppen von organischen Diisocyanaten mit aliphatisch und/oder cyc­loaliphatisch gebundenen Isocyanatgruppen in Gegenwart eines Trimerisierungskatalysators, wobei man als Tri­merisierungskatalysator quaternäre Ammoniumfluoride verwendet, und die Verwendung der nach dem Verfahren erhältlichen, Isocyanuratgruppen aufweisenden Polyiso­cyanate, gegebenenfalls in mit Blockierungsmitteln für Isocyanatgruppen blockierter Form, als Isocyanatkompo­nente in Polyurethanlacken.

  一种用于制备含有异氰尿酸酯基团和脂肪族和/或环脂族键合异氰酸酯基团的多异氰酸酯的新工艺，其方法是有机二异氰酸酯的部分异氰酸酯基团与脂肪族和/或环脂族键合异氰酸酯基团在三聚催化剂存在下进行三聚反应、其中，季铵氟化物被用作三聚化催化剂，通过该工艺获得的含有异氰尿酸酯基团的多异氰酸酯（可选择以异氰酸酯基团封端剂封端的形式）被用作聚氨酯漆中的异氰酸酯组分。
• CURABLE COMPOSITION AND CATALYST COMPOSITION
  申请人：Kaneka Corporation

  公开号：EP2088173A1

  公开（公告）日：2009-08-12

  An object of the present invention is to provide a curable composition made mainly of an organic polymer having a reactive silicon group, exhibits a good curability without using any organic tin compound substantially, and gives a cured product having a sufficient strength; and to provide a catalyst composition. The object is solved by a curable composition, comprising a polymer (A) having a silicon-containing group which can be crosslinked by forming a siloxane bond, and a fluoride salt compound (B).

  本发明的目的是提供一种主要由具有活性硅基团的有机聚合物制成的可固化组合物，该组合物无需大量使用任何有机锡化合物即可表现出良好的可固化性，并使固化产品具有足够的强度；同时还提供一种催化剂组合物。本发明的目的是通过一种可固化组合物来实现的，该组合物包括一种具有含硅基团的聚合物（A），该聚合物可通过形成硅氧烷键而交联，以及一种氟化物盐化合物（B）。
• SEMICONDUCTOR SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR SURFACE USING THE SEMICONDUCTOR SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP2249206A1

  公开（公告）日：2010-11-10

  An object of the present invention is to provide a semiconductor surface treating agent composition, which can realize easy removing of an anti-reflection coating layer in a production process of a semiconductor device or the like at a low temperature in a short time, a method for treating a semiconductor surface using the same, and further a semiconductor surface treating agent composition, which can realize not only removing of both layer of an anti-reflection coating layer and a resist layer, but can realize even removing of a cured resist layer produced in an etching process, and a method for treating a semiconductor surface using the same. The semiconductor surface treating agent composition of the present invention is characterized by comprising a compound which generates a fluorine ion in water, a carbon radical generating agent, and water and optionally an organic solvent, and the method for treating a semiconductor surface of the present invention is characterized by using the composition.

  本发明的目的是提供一种半导体表面处理剂组合物，该组合物可在短时间内以低温轻松去除半导体器件等生产过程中的抗反射涂层，以及使用该组合物处理半导体表面的方法；进一步提供一种半导体表面处理剂组合物，该组合物不仅可同时去除抗反射涂层和抗蚀层，甚至还可去除蚀刻过程中产生的固化抗蚀层，以及使用该组合物处理半导体表面的方法。本发明的半导体表面处理剂组合物的特点是由一种在水中生成氟离子的化合物、一种碳自由基生成剂、水和可选的有机溶剂组成，本发明的半导体表面处理方法的特点是使用该组合物。
• Curable composition and catalyst composition
  申请人：KANEKA CORPORATION

  公开号：EP2302000A1

  公开（公告）日：2011-03-30

  An object of the present invention is to provide a curable composition made mainly of an organic polymer having a reactive silicon group, exhibits a good curability without using any organic tin compound substantially, and gives a cured product having a sufficient strength; and to provide a catalyst composition. The object is solved by a curable composition, comprising a polymer (A) having a silicon-containing group which can be crosslinked by forming a siloxane bond, and a fluoride salt compound (B).

  本发明的目的是提供一种主要由具有活性硅基团的有机聚合物制成的可固化组合物，该组合物无需大量使用任何有机锡化合物即可表现出良好的可固化性，并使固化产品具有足够的强度；同时还提供一种催化剂组合物。本发明的目的是通过一种可固化组合物来实现的，该组合物包括一种具有含硅基团的聚合物（A），该聚合物可通过形成硅氧烷键而交联，以及一种氟化物盐化合物（B）。
• PROCESSING AGENT COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR SURFACE AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SURFACE USING SAME
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP2475000A1

  公开（公告）日：2012-07-11

  The present invention is directed to provide a semiconductor surface treating agent composition which is capable of stripping an anti-reflection coating layer, a resist layer, and a cured resist layer in the production process of a semiconductor device and the like easily and in a short time, as well as a method for treating a semiconductor surface, comprising that the composition is used. The present invention relates to a semiconductor surface treating agent composition, comprising [I] a compound generating a fluorine ion in water, [11] a carbon radical generating agent, [111] water, [IV] an organic solvent, and [V] at least one kind of compound selected from a group consisting of hydroxylamine and a hydroxylamine derivative represented by the general formula [1], as well as a method for treating the semiconductor surface, comprising that the composition is used: (wherein R1 represents a linear, branched or cyclic C1-6 alkyl group, or a linear or branched C1-4 substituted alkyl group having 1 to 3 hydroxyl groups; R2 represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic C1-6 alkyl group, or a linear or branched C1-4 substituted alkyl group having 1 to 3 hydroxyl groups).

  本发明旨在提供一种半导体表面处理剂组合物，该组合物能够在半导体器件等的生产过程中在短时间内容易地剥离抗反射涂层、抗蚀层和固化抗蚀层，以及一种处理半导体表面的方法，其中包括使用该组合物。本发明涉及一种半导体表面处理剂组合物，包括[I]一种在水中生成氟离子的化合物、[11]一种碳自由基生成剂、[111]水、[IV]一种有机溶剂和[V]至少一种选自由通式[1]表示的羟胺和羟胺衍生物组成的组中的化合物，以及一种处理半导体表面的方法，包括使用该组合物： (其中 R1 代表直链、支链或环状 C1-6 烷基，或具有 1 至 3 个羟基的直链或支链 C1-4 取代烷基；R2 代表氢原子、直链、支链或环状 C1-6 烷基，或具有 1 至 3 个羟基的直链或支链 C1-4 取代烷基）。