tris(4-tert-butylphenylsulfonium) iodide | 376357-74-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tris(4-tert-butylphenylsulfonium) iodide
• 英文别名: Tris(4-tert-butylphenyl)sulfanium;iodide
• CAS: 376357-74-3
• 化学式: C₃₀H₃₉S*I
• 分子量: 558.61
• InChiKey: MPAHVEVNAVXCAC-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.68
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tris(4-tert-butylphenylsulfonium) iodide 在 硫酸二乙酯 、 potassium carbonate 、 4-甲氧基苯酚 作用下， 以 氯仿 、 乙腈 为溶剂， 反应 9.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP5948862

  摘要：

  公开号：

文献信息

• カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2020094037A

  公开（公告）日：2020-06-18

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造できるカルボン酸塩、該塩を含有するカルボン酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩。［Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１２の脂肪族炭化水素基（但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい）；Ｒ２は、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のフッ素化アルキル基又は炭素数１〜１２の炭化水素基（但し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい）；ｍ２は、０〜４の整数（但し、ｍ２が２以上のとき、複数のＲ２は互いに同一であっても異なってもよい）；Ｚ１＋は、有機カチオン］【選択図】なし

  提供具有良好CD均一性（CDU）的树脂图案制造所需的羧酸盐，含有该盐的羧酸发生剂和光刻胶组合物。所述羧酸盐由式（I）表示。[R1为C1〜C12的脂肪族烃基（但所述脂肪族烃基中含有的-CH2-可被-O-或-CO-取代）；R2为卤素原子，C1〜C4的氟化烷基或碳数1〜12的烃基（但所述烃基中含有的-CH2-可被-O-或-CO-取代）；m2为0〜4的整数（但当m2大于2时，多个R2可以相同也可以不同）；Z1+为有机阳离子]【选择图】无
• Sulfonate and resist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20040152009A1

  公开（公告）日：2004-08-05

  The present invention provides a sulfonate of the formula (I): 1 wherein Q 1 , Q 2 , Q 3 , Q 4 and Q 5 each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 16 carbon atoms, alkoxy having 1 to 16 carbon atoms, halogen, aryl having 6 to 12 carbon atoms, aralkyl having 7 to 12 carbon atoms, cyano, sulfide, hydroxy, nitro or a group of the formula (I′) —COO—X—Cy 1 (I′) wherein X represents alkylene and at least one —CH 2 — in the alkylene may be substituted by —O— or —S—, and Cy 1 represents alicyclic hydrocarbon having 3 to 20 carbon atoms, and A + represents a counter ion, with the proviso that at least one of Q 1 , Q 2 , Q 3 , Q 4 and Q 5 is the group of the formula (I′). The present invention also provides a chemical amplification type positive resist composition comprising a sulfonate of the formula (I) and resin which contains a structural unit having an acid labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid

  本发明提供了公式(I)的磺酸盐：其中Q1、Q2、Q3、Q4和Q5分别独立地表示氢、1至16个碳原子的烷基、1至16个碳原子的烷氧基、卤素、6至12个碳原子的芳基、7至12个碳原子的芳基烷基、氰基、硫化物、羟基、硝基或公式(I') - COO - X - Cy1(I')的基团，其中X表示烷基，烷基中至少有一个-CH2-可能被-O-或-S-取代，Cy1表示3至20个碳原子的脂环烃，并且A+表示一个反离子，但至少有一个Q1、Q2、Q3、Q4和Q5是公式(I')的基团。本发明还提供了一种化学放大型正性光刻胶组合物，包括公式(I)的磺酸盐和树脂，该树脂含有具有酸敏感基团的结构单元，本身在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。
• Positive resist composition and onium salts of saccharin derivatives
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP1158363A1

  公开（公告）日：2001-11-28

  A positive resist composition comprising (A) a compound generating a specific sulfonimide compound by irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a resin having a group, which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility of the composition in an alkali developer. The resist composition has an improved resolving power and an improved process allowance such as exposure margin and the depth of focus in a lithographic technique using a light source of short wavelengths capable of super fine working and a positive chemically amplified resist.

  一种正性抗蚀剂组合物，由以下部分组成：(A)一种通过光射线或辐射照射产生特定磺酰亚胺化合物的化合物；(B)一种具有基团的树脂，该基团在酸的作用下分解，以增加组合物在碱显影剂中的溶解度。这种抗蚀剂组合物具有更高的分辨力和更好的加工余量，例如在使用短波长光源进行超精细加工的平版印刷技术中的曝光余量和焦距深度，以及正化学放大抗蚀剂。
• [EN] BOTTOM ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT ANTIREFLET DE FOND
  申请人：AZ ELECTRONIC MATERIALS USA

  公开号：WO2009053832A3

  公开（公告）日：2009-11-26
• JP6207065
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——