Adamantan-sulfinsaeure-(1)-methylester | 21280-38-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 亚磺酸及其衍生物
• 英文名称: Adamantan-sulfinsaeure-(1)-methylester
• 英文别名: Adamantan-1-sulfinsaeure-methylester；Methyl adamantane-1-sulfinate
• CAS: 21280-38-6
• 化学式: C₁₁H₁₈O₂S
• 分子量: 214.329
• InChiKey: ZJCUGXGRMPBUOW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  321.1±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.23±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  45.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Adamantan-sulfinsaeure-(1)-methylester 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成 1-金刚烷乙醇
  参考文献：
  名称：

  Stetter,H. et al., Chemische Berichte, 1969, vol. 102, p. 3361 - 3363

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  金刚烷 在 三氯化铝 、 氯化亚砜 作用下， 生成 Adamantan-sulfinsaeure-(1)-methylester
  参考文献：
  名称：

  Stetter,H. et al., Chemische Berichte, 1969, vol. 102, p. 3361 - 3363

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2010035905A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)?2- and OS(=O)2-, provided that -C(=O)O- is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M+ represents an organic onium ion.

  一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，包括下面的通式(I)中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团之外的取代基的芳香环；n为大于等于1的整数；A代表从单键、烷基基团、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-和OS(=O)2-中选取的任意一个或两个以上成员的组合，但不包括-C(=O)O-；B代表含有4个或更多碳原子的烃基团的基团，当n大于等于2时，两个或更多个-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机离子。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110171577A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O) 2 — and —OS(═O) 2 —, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M + represents an organic onium ion.

  一种感光射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括下列通式（I）中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团以外的取代基的芳香环；n是大于等于1的整数；A代表从单键、烷基、—O—、—S—、—C（═O）—、—S（═O）—、—S（═O）2—和—OS（═O）2—中任意选择一个或两个或两个以上成员的组合，但不包括—C（═O）O—；B代表一个含有4个或更多碳原子的烃基团，其中包含一个三级或季级碳原子，当n大于等于2时，两个或两个以上的-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机阳离子。
• US8900791B2
  申请人：——

  公开号：US8900791B2

  公开（公告）日：2014-12-02
• Stetter,H. et al., Chemische Berichte, 1969, vol. 102, p. 3361 - 3363
  作者：Stetter,H. et al.

  DOI：——

  日期：——