3-nitrobenzene-1-sulfonyl bromide | 1950-73-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3-nitrobenzene-1-sulfonyl bromide
• 英文别名: 3-nitro-benzenesulfonyl bromide；3-Nitro-benzolsulfonylbromid；3-Nitrobenzolsulfonylbromid；m-Nitrobenzolsulfonylbromid；m-Nitrobenzo-sulfobromid；3-nitrobenzenesulfonyl bromide
• CAS: 1950-73-8
• 化学式: C₆H₄BrNO₄S
• 分子量: 266.072
• InChiKey: QOSOMYHVXYXLCI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  88.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-nitrobenzene-1-sulfonyl bromide 在 吡啶 、 硫化氢 、 氨 、 水 作用下， 生成 acetic acid-(3-pyrimidin-2-ylsulfamoyl-anilide)
  参考文献：
  名称：

  2 (meta-aminobenzenesulfonamido) 5-halopyrimidines and method of preparing same

  摘要：

  公开号：

  US02506351A1
• 作为产物：
  描述：

  2-硝基苯磺酰肼 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 以88%的产率得到3-nitrobenzene-1-sulfonyl bromide
  参考文献：
  名称：

  从磺酰肼轻松合成磺酰氯/溴化物

  摘要：

  描述了一种使用 NXS（X = Cl 或 Br）从磺酰肼高效合成磺酰氯/溴化物并在后期转化为几个其他官能团的简单快速方法。多种亲核试剂可以参与这种转化，从而可以合成复杂的磺酰胺和磺酸盐。在大多数情况下，这些反应具有高度选择性、简单且清洁，以优异的产率提供产品。

  DOI：

  10.3390/molecules26185551

文献信息

• PROCESS FOR PRODUCING ANTHRANILAMIDE COMPOUND
  申请人：Yamamoto Kazuhiro

  公开号：US20110034696A1

  公开（公告）日：2011-02-10

  To provide a process for producing an anthranilamide having the 3-position of pyrazole substituted by a bromine atom, or its salt. A process for producing an anthranilamide compound represented by the formula (I) or its salt: which comprises reacting a compound represented by the formula (II): (wherein Z is 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl or benzene substituted by a nitro group), with a brominating agent, to produce a compound represented by the formula (III): and further reacting the compound of the formula (III) with an oxidizing agent.

  提供一种制备在吡唑的3位被溴原子取代的蒽酰胺或其盐的过程。该过程包括反应式（II）的化合物：（其中Z是2-吡啶基，3-吡啶基，4-吡啶基或被硝基取代的苯基），与溴化试剂反应，生成式（III）的化合物：进一步将式（III）的化合物与氧化剂反应，制备式（I）的蒽酰胺化合物或其盐。
• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Lukaschevitsch, Doklady Akademii Nauk SSSR, 1955, vol. 103, p. 627,629
  作者：Lukaschevitsch

  DOI：——

  日期：——
• 2 (meta-aminobenzenesulfonamido) 5-halopyrimidines and method of preparing same
  申请人：AMERICAN CYANAMID CO

  公开号：US02506351A1

  公开（公告）日：1950-05-02