2-nitro-4-(trifluoromethyl)benzyl tosylate | 132898-40-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-nitro-4-(trifluoromethyl)benzyl tosylate
• 英文别名: p-Toluenesulfonic acid 4-(trifluoromethyl)-6-nitrobenzyl ester；[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]methyl 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 132898-40-9
• 化学式: C₁₅H₁₂F₃NO₅S
• 分子量: 375.325
• InChiKey: WAGAHGOUZKVKQZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  97.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-硝基-4-(三氟甲基)溴苄 以65%的产率得到2-nitro-4-(trifluoromethyl)benzyl tosylate
  参考文献：
  名称：

  Resist materials

  摘要：

  此类抗蚀剂组合物对深紫外光敏感，包括对酸敏感的树脂和一种在暴露于此类辐射时产生酸的组合物。特别是，硝基苄基材料适合用作酸发生剂。

  公开号：

  US05200544A1

文献信息

• US5200544A
  申请人：——

  公开号：US5200544A

  公开（公告）日：1993-04-06
• Resist materials
  申请人：AT&T Bell Laboratories

  公开号：US05200544A1

  公开（公告）日：1993-04-06

  A class of resist compositions sensitive to deep ultraviolet radiation includes a resin sensitive to acid and a composition that generates acid upon exposure to such radiation. A group of nitrobenzyl materials is particularly suitable for use as the acid generator.

  此类抗蚀剂组合物对深紫外光敏感，包括对酸敏感的树脂和一种在暴露于此类辐射时产生酸的组合物。特别是，硝基苄基材料适合用作酸发生剂。