2-烯丙氧基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酰氯 | 73606-13-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 中文名称: 2-烯丙氧基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酰氯
• 英文名称: 2-Allyloxy-1,1,2,2-tetrafluoro-ethanesulfonyl fluoride
• 英文别名: 2-Allyloxy-1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonyl fluoride；1,1,2,2-tetrafluoro-2-prop-2-enoxyethanesulfonyl fluoride
• CAS: 73606-13-0
• 化学式: C₅H₅F₅O₃S
• mdl: MFCD03095419
• 分子量: 240.151
• InChiKey: IMNCTHAFGYFIOE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  112 °C
• 密度：
  1.49g/ml

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

安全信息

• 危险等级：
  IRRITANT
• 危险品标志：
  Xi
• 危险类别码：
  R34
• 危险品运输编号：
  UN 3265
• 安全说明：
  S26,S36/37/39

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-烯丙氧基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酰氯 在 四氧化锇 水 、 N-甲基吗啉氧化物 、 三乙胺 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 29.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种由化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基团，A1表示C1-C30单价有机基团，X1表示C1-C10脂肪烃基团，其中氢原子可能被羟基取代，m1和m2分别独立表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120315580A1
• 作为产物：
  描述：

  四氟乙烷-beta-磺内酯 、 3-溴丙烯 在 silver fluoride 作用下， 生成 2-烯丙氧基-1,1,2,2-四氟乙烷磺酰氯
  参考文献：
  名称：

  New polyfluoroalkoxysulfonyl fluorides (I)

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)81557-2

文献信息

• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2017057192A

  公开（公告）日：2017-03-23

  【課題】良好なＣＤ均一性でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に１又は２を表す。Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又はヘテロ芳香族炭化水素基を表す。Ａ１はヒドロキシ基で置換されてもよい、（１＋ｓ）価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。Ｒ３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子２つがそれぞれ酸素原子に置換され、当該２つの酸素原子がアルカンジイル基と一緒になってフッ素原子を含んでもよいケタール環を形成してもよい。ｓは、１〜３の整数を表す。］【選択図】なし

  这段文字是关于专利申请的内容，描述了一种能够制造具有良好CD均一性的光刻胶模式的盐、酸发生剂、光刻胶组合物等。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.SVol.3, 6.2.3.4, page 152 - 186
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• anonymous, Chemical Abstracts, Huaxue Xuebao 37 (1978/79) 315/324, 1980, vol. 93, p. 113886
  作者：anonymous

  DOI：——

  日期：——
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20120315580A1

  公开（公告）日：2012-12-13

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a C1-C30 monovalent organic group, X 1 represents a C1-C10 aliphatic hydrocarbon group where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxy group, m 1 and m 2 independently each represent an integer of 1 to 4, and Z + represents an organic cation.

  一种由化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基团，A1表示C1-C30单价有机基团，X1表示C1-C10脂肪烃基团，其中氢原子可能被羟基取代，m1和m2分别独立表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子。
• New polyfluoroalkoxysulfonyl fluorides (I)
  作者：L.F. Chen、J. Mohtasham、G.L. Gard

  DOI：10.1016/s0022-1139(00)81557-2

  日期：1990.1