3,3'-dihydroxy-4,4'-di-tert-butyl-2,2',6,6'-tetramethyldibenzylsulfide | 87079-85-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,3'-dihydroxy-4,4'-di-tert-butyl-2,2',6,6'-tetramethyldibenzylsulfide
• 英文别名: 6-Tert-butyl-3-[(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylphenyl)methylsulfanylmethyl]-2,4-dimethylphenol
• CAS: 87079-85-4
• 化学式: C₂₆H₃₈O₂S
• 分子量: 414.653
• InChiKey: XXBMMQSWSSUAMR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  65.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-叔丁基-3-氯甲基-4,6-二甲基苯酚 在 硫化氢 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 3,3'-dihydroxy-4,4'-di-tert-butyl-2,2',6,6'-tetramethyldibenzylsulfide
  参考文献：
  名称：

  Phenols and use thereof as stabilizers

  摘要：

  本发明涉及含有多个芳香核且这些核的桥接位于OH基团的间位的酚类化合物。这些酚具有式I的结构，##STR1## 或 ##STR2## 其中R1、R2、R3、R4、A和n如权利要求1中所定义。新型的酚类化合物非常适合用作有机聚合物和润滑油的稳定剂，并具有特别优良的颜色特性。

  公开号：

  US04507420A1

文献信息

• Phenole und ihre Verwendung als Stabilisatoren
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0081457A2

  公开（公告）日：1983-06-15

  Die erfindungsgemässen Phenole weisen vorwiegend mehrere aromatische Kerne auf, bei denen die Brückenbildung dieser Kerne mindestens einmal in m-Stellung zu den OH-Gruppen erfolgt. Sie entsprechen der Formel 1 oder der Formel VI worin die Reste R1, R2, R3, R4, A und n die im Anspruch 1 angegebene Bedeutung haben. Die neuen Phenole eignen sich hervorragend als Stabilisatoren für organische Polymere und Schmiermittel mit besonders guten Farbeigenschaften.

  根据本发明的苯酚主要具有多个芳香族核，其中这些核至少在 m 位与 OH 基团桥接一次。 它们符合式 1 或式 VI，其中自由基 R1、R2、R3、R4、A 和 n 具有权利要求 1 中给出的含义。 新型苯酚非常适合用作有机聚合物和润滑剂的稳定剂，具有特别好的着色性能。
• LUBRICATING OIL COMPOSITION FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
  申请人：Umehara Kazuhiro

  公开号：US20130310289A1

  公开（公告）日：2013-11-21

  Provided is a lubricating oil composition for an internal combustion engine, including: an organic molybdenum compound as a component (A); a base oil having a kinematic viscosity at 100 ° C. of 25 mm 2 /s or more as a component (B); and a base oil having a kinematic viscosity at 100° C. of less than 12.5 mm 2 /s as a component (C), in which the composition has a kinematic viscosity at 100° C. of 5 mm 2 /s to 12.5 mm 2 /s and a phosphorus content of 800 ppm or less.
• DEVELOPER, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20180186907A1

  公开（公告）日：2018-07-05

  Provided is a pattern forming method including the successive steps of: a resist film forming step of forming a resist film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition; an exposure step of exposing the resist film; a step of developing the exposed resist film using a developer, and a step of rinsing the developed resist film using a rinsing liquid containing an organic solvent. The developer includes a ketone-based or ether-based solvent having a branched alkyl group. The organic solvent contained in the rinsing liquid includes an ether-based solvent having a branched alkyl group.
• US4507420A
  申请人：——

  公开号：US4507420A

  公开（公告）日：1985-03-26