and 90 ± 1% yield for 10 min reaction time with MIL-101(Al)-NH2. Reactions with small carboxylic acid reactants or byproducts like acetic acid led to damage or decomposition of UiO-66(Zr)-NH2 and MIL-101(Al)-NH2 probably due to postsynthetic ligand exchange. However, this limitation can be overcome by using carboxylic acids with high steric demand that might decelerate or disable ligand exchange and hence
开发了一种快速,简单而有效的方法,用于在高温下用
羧酸,酸酐和酰
氯进行
氨基标记的
金属有机骨架(MOF)的后合成修饰(PSM),而无需额外的溶剂。在一项比较研究中,通过反应物在MIL-53(Al)-NH 2,UiO-66(Zr)-NH 2和MIL-101(Al )的反应性和尺寸上的系统变化确定了PSM的最佳合成条件)-NH 2。为此,制备了无酸消解剂,该消解剂允许使用溶液核磁共振(NMR)对合成的酸敏感性酰胺进行准确的产率比较。适用于MIL-53(Al)-NH 2和UiO-66(Zr)-NH 2在100°C下使用酰
氯或酸酐可获得最佳结果。对于MIL-101(Al)-NH 2而言,在高达100°C的温度下使用酸酐是实现有效PSM的合适途径。所有反应参数的优化导致在100°C下使用
乙酸酐在94.9±0.5%的条件下与MIL-53(Al)-NH 2反应2 h的后官能化产率,在98° ±3%的UiO-下10