6-(4-chlorosulfonylphenyl)-3-diazo-2,4-hexanedione | 123953-65-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 6-(4-chlorosulfonylphenyl)-3-diazo-2,4-hexanedione
• 英文别名: 4-[(4E)-4-diazo-3,5-dioxohexyl]benzenesulfonyl chloride
• CAS: 123953-65-1
• 化学式: C₁₂H₁₁ClN₂O₄S
• 分子量: 314.749
• InChiKey: CWLIZRRHTQTDNC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  78.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-(4-chlorosulfonylphenyl)-3-diazo-2,4-hexanedione 以 乙醇 、 三乙胺 为溶剂， 生成 ethyl 4-(4-diazo-3,5-dioxohexyl)benzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Photosensitive compound

  摘要：

  具有偏好功能基团的光敏化合物，例如--SO.sub.2 Cl，--SO.sub.3 H，--SO.sub.3 R，##STR1##（R，R'，R"为烷基）连接通过亚甲基基团的末端苯或萘环和##STR2##基团，在光敏度和热稳定性方面得到改善，因此在光刻胶中有用。

  公开号：

  US05250669A1

文献信息

• Photosensitive material and process for forming pattern using the same
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：EP0319325A2

  公开（公告）日：1989-06-07

  A photosensitive composition comprising a resin such as an alkali-soluble resin and a photosensitive compound such as a novel 3-diazo-2,4-dione derivative, a novel Meldrum's acid derivative, or the like is effective for forming a fine pattern using deep UV light of less than about 300 nm.

  一种由树脂（如碱溶性树脂）和光敏化合物（如新型 3-重氮-2,4-二酮衍生物、新型梅氏酸衍生物等）组成的光敏组合物能有效地利用小于约 300 纳米的深紫外线形成精细图案。
• US5250669A
  申请人：——

  公开号：US5250669A

  公开（公告）日：1993-10-05