3-ethoxy-xanthen-9-one | 100914-96-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并吡喃
• 英文名称: 3-ethoxy-xanthen-9-one
• 英文别名: 3-Aethoxy-xanthen-9-on；3-Ethoxyxanthen-9-one
• CAS: 100914-96-3
• 化学式: C₁₅H₁₂O₃
• 分子量: 240.258
• InChiKey: BRFITOYKMVEOCL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  398.4±31.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.237±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-溴苯甲酰氯 在 tris(dibenzylideneacetone)dipalladium(0) chloroform complex 、 正丁基锂 、 caesium carbonate 、 二异丙胺 、 2-二环己基磷-2,4,6-三异丙基联苯 作用下， 以 四氢呋喃 、 1,4-二氧六环 、 正己烷 为溶剂， 反应 21.17h， 生成 3-ethoxy-xanthen-9-one
  参考文献：
  名称：

  Stereocontrolled synthesis of a d-amicetose functionalised tetrahydroxanthone related to kigamicin A

  摘要：

  A glycosylated tetrahydroxanthone mimicking the ABC subunit of kigamicin A is synthesised in five steps by a sequence that exploits a Pd catalysed C-O bond forming reaction to construct the tetrahydroxanthone nucleus; chemo- and enantioselective Ru-catalysed transfer hydrogenation to establish the C-14 hydroxyl stereochemistry in the A-ring; and a trichloroacetimidate activated donor to introduce the beta-linked D-amicetose unit in a stereoselective manner. (C) 2013 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2013.09.091

文献信息

• 一种高效长寿命的有机室温磷光材料及其制 备方法
  申请人：北京师范大学

  公开号：CN108997299B

  公开（公告）日：2020-04-03

  本申请提供一种烷氧基、苄氧基或溴取代的占吨酮衍生物及其制备方法，该占吨酮衍生物制备方法简单，磷光峰位位于长波长峰位，其磷光寿命长，且发光效率高。该占吨酮衍生物的制备步骤包括：步骤1：向反应容器中加入苯酚，碳酸钾，DMF及甲苯，于氮气环境下回流3‑5小时，进行脱水处理直至确认体系中无水产生为止；之后，去除甲苯，恢复至室温，加入4‑溴‑2‑氟苯腈，于氮气环境下回流3‑5小时；反应结束后，向溶液中加入甲苯100mL加以稀释，然后过滤、水洗、干燥，得到晶体粗产物，经色谱柱纯化得到中间体步骤2：加入步骤1所得到的中间体，水，硫酸，在氮气环境下加热至150℃‑200℃温度搅拌回流10‑15小时；反应结束后，冷却至室温，加入到水中稀释，然后用三氯甲烷和饱和氯化钠溶液萃取，将有机相合并，干燥过滤，减压蒸馏除去溶剂，得到晶体粗产物，经色谱柱纯化得到白色晶体
• 859. Xanthones: cyclisation of 3′-substituted 2-carboxydiphenyl ethers
  作者：A. A. Goldberg、A. H. Wragg

  DOI：10.1039/jr9580004227

  日期：——
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, CURED PRODUCT, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT SUBSTRATE
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：US20170329220A1

  公开（公告）日：2017-11-16

  A photosensitive resin composition comprises: a resin having a phenolic hydroxyl group; a photosensitive acid generator; a compound having at least one selected from the group consisting of an aromatic ring, a heterocycle and an alicycle, and at least one selected from the group consisting of a methylol group and an alkoxyalkyl group; an aliphatic compound having two or more functional groups being at least one selected from the group consisting of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a glycidyloxy group, an oxetanyl alkyl ether group, a vinyl ether group and a hydroxyl group; and a compound having at least one skeleton selected from the group consisting of an anthracene skeleton, a phenanthrene skeleton, a pyrene skeleton, a perylene skeleton, a carbazole skeleton, a phenothiazine skeleton, a xanthone skeleton, a thioxanthone skeleton, an acridine skeleton, a phenylpyrazoline skeleton, a distyrylbenzene skeleton and a distyrylpyridine skeleton, or a benzophenone compound.
• US4379039A
  申请人：——

  公开号：US4379039A

  公开（公告）日：1983-04-05