1,1,9,9-tetrafluoro-[2,2]-p-cyclophane | 161728-01-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物
• 英文名称: 1,1,9,9-tetrafluoro-[2,2]-p-cyclophane
• 英文别名: 1,1,9,9-tetrafluoro[2.2]paracyclophane；2,2,8,8-Tetrafluorotricyclo[8.2.2.24,7]hexadeca-1(13),4,6,10(14),11,15-hexaene
• CAS: 161728-01-4
• 化学式: C₁₆H₁₂F₄
• 分子量: 280.265
• InChiKey: DMCSBFOAZADKFQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,9,9-tetrafluoro-[2,2]-p-cyclophane 在 溴 、 碘 作用下， 反应 48.0h， 以72%的产率得到4-bromo-1,1,9,9-tetrafluoro[2.2]paracyclophane
  参考文献：
  名称：

  溴化四氟[2.2]对环芳烃的合成

  摘要：

  在各种条件下研究了两种异构四氟[2.2] 对环烷的溴化。我们发现了高产率的单溴化和二溴化1,1,9,9-四氟[2.2] 对环烷的选择性条件。此外，表征了三种四溴异构体。以高产率制备了 1,1,10,10-四氟 [2.2] 对环烷的对位二溴化物。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2006)

  DOI：

  10.1002/ejoc.200600598
• 作为产物：
  描述：

  1,1,9,9-Tetrabrom<2.2>paracyclophan 在 silver tetrafluoroborate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 20.0h， 生成 1,1,9,9-tetrafluoro-[2,2]-p-cyclophane
  参考文献：
  名称：

  两种四氟[2,2]对环环烷异构体的简便合成和单晶X射线结构

  摘要：

  氟化的[2,2]对环环烷酮是聚对二甲苯聚合物的有用前体。可以通过方便的两步法轻松地制备环1,1,9,9-四氟[2,2]对-环烯（3a）和1,1,10,10-四氟[2.2]对-环烯（3b）。由母体烃[2,2]对环环烷（1）进行一步合成。通过单晶X射线分析确认了3a和3b的结构。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(01)00527-5

文献信息

• METHOD FOR IMPROVING THE HEAT STABILITY OF FILMS OF POLY-P-XYLYLENE
  申请人：Daisankasei Co.,Ltd.

  公开号：EP1700876B1

  公开（公告）日：2008-08-13
• Method for improving heat stability of polyparaxylylene and derivative film thereof and polyparaxylylene derivative
  申请人：Maruyama Hiroshi

  公开号：US20070105997A1

  公开（公告）日：2007-05-10

  A method for improving the heat stability of polyparaxylylene and a derivative film thereof to improve the heat resistance of the polyparaxylylene and the derivative film thereof without deteriorating deposition characteristics or profitability, and a polyparaxylylene derivative whose heat resistance is improved are provided. When the polyparaxylylene or the derivative film thereof represented by a below-described general formula 1 is formed by a chemical vapor deposition method, an amino-(2.2)-paracyclophane compound represented by a below-described general formula 3 is mixed in a (2.2)-paracyclophane compound represented by a below-described general formula 2 to form a film. (In the formula 1, X 1 and X 2 designate hydrogen, lower alkyl or halogen. X 1 and X 2 may be the same or different. n represents a degree of polymerization.) (In the formula 2, X 1 and X 2 have the same meanings as those of the formula 1.) (In the formula 3, X 3 designates hydrogen or a lower alkyl group. Y 1 and Y 2 designate hydrogen or an amino group and both Y 1 and Y 2 are not hydrogens at the same time.)
• US7763318B2
  申请人：——

  公开号：US7763318B2

  公开（公告）日：2010-07-27