[EN] POLYMERIZABLE COMPOUND, PHOTOCURABLE POLYMER, INSULATING FILM, PROTECTIVE FILM, AND ORGANIC TRANSISTOR DEVICE<br/>[FR] COMPOSÉ POLYMÉRISABLE, POLYMÈRE PHOTODURCISSABLE, FILM ISOLANT, FILM DE PROTECTION ET DISPOSITIF À TRANSISTOR ORGANIQUE<br/>[JA] 重合性化合物、光硬化型重合体、絶縁膜、保護膜、及び有機トランジスタデバイス
申请人:TOSOH CORP
公开号:WO2019181954A1
公开(公告)日:2019-09-26
低級脂肪族アルコールに溶解し、紫外線により短時間で光架橋し、コンタクトホールを形成可能な絶縁層形成用の重合体、有機トランジスタデバイスの絶縁層として利用できる汎用溶剤へ溶解し、常温かつ短時間で架橋する絶縁性に優れた重合体、及び溶剤に可溶で、常温かつ短時間で光架橋により溶剤に不溶化し、撥液性を示す重合体を提供する。 式(1)及び式(2)で表される重合性化合物。 (式(1)中、R1は水素またはC1~C6のアルキル基のいずれかを、Lは炭素数1~14の2価の連結基を、nは0または1を、A、R2及びR3はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、C1~C18のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アルキルケトン基、アルキルエステル基、アルキルアミド基、アリール基、アリールエーテル基、アリールチオ基、カルボキシアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルキルカルボニル基、フルオロアルキルエステル基、フルオロアリール基、フルオロチオ基、シクロアルキル基、シクロヘテロアルキル基からなる群の1種を、XはOまたはSを、mは0~3の整数を表す。) (式(2)中、Q1及びQ2はそれぞれ独立して炭素数1~14の2価の連結基を、p及びqはそれぞれ独立して0または1を、G1、G2、R4~R7はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、C1~C18のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アルキルケトン基、アルキルエステル基、アルキルアミド基、アリール基、アリールエーテル基、アリールチオ基、カルボキシアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルキルエーテル基、フルオロアルキルカルボニル基、フルオロアルキルエステル基、フルオロアリール基、フルオロチオ基、シクロアルキル基、シクロヘテロアルキル基を、X1~X4はそれぞれ独立してOまたはS を、r及びsはそれぞれ独立して0~3の整数を表す。)