1,1'-[Ethane-1,2-diylbis(oxy)]bis(4-azidobenzene) | 38201-77-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,1'-[Ethane-1,2-diylbis(oxy)]bis(4-azidobenzene)
• 英文别名: 1-azido-4-[2-(4-azidophenoxy)ethoxy]benzene
• CAS: 38201-77-3
• 化学式: C14H12N6O2
• 分子量: 296.28
• InChiKey: DTTGPKCYPXWFSH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  47.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

文献信息

• Neue Bisazidoverbindungen, diese enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzungen und Verfahren zur Erzeugung von Reliefstrukturen
  申请人：MERCK PATENT GmbH

  公开号：EP0103800A2

  公开（公告）日：1984-03-28

  Neue Bisazidoverbindungen der Formel I worin X und Y die gleich oder verschieden sein können, O, S, SO2, N-R, oder eine Bindung, m und n die gleich oder verschieden sein können, ganze Zahlen von 1 bis 8, mit der Maßgabe, daß die Summe von m + n nicht größer als 12 ist, Z eine Bindung oder, falls X und Y beide eine Bindung bedeuten oder m und n beide ungleich 1 sind, auch O, S, SO2 oder N-R1, oder, falls X und Y beide eine Bindung bedeuten, auch CO, gegebenenfalls in 2-Stellung durch eine Oxogruppe substituiertes 1,3-Cyclopentylen oder gegebenenfalls in 2-Stellung durch eine Oxogruppe und/oder in 5-Stellung durch Alkylmit 1 bis 6 C-Atomen substituiertes 1,3-Cyclohexylen, R und R' die gleich oder verschieden sein können, H, Halogen oder Alkyl mit 1 bis 6 C-Atomen und R1 H oder Alkyl mit 1 bis 6 C-Atomen bedeuten, mit der Maßgabe, daß -X-CmH2m-Z-CnH2n-Y- nicht -(CH2)2- oder -(CH2)3- bedeutet, weisen eine hohe Empfindlichkeit für fernes UV-Licht auf und eignen sich somit als lichtempfindliche Komponenten in negativ arbeitenden, für fernes UV-Licht empfindlichen Zusammensetzungen. Die mit Hilfe der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzungen fotolithographisch hergestellten Reliefstrukturen zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften aus und weisen eine hohe Auflösung auf. Sie eignen sich zur fotolithographischen Herstellung von miniaturisierten Schaltungen.

  式 I 的新型双叠氮化合物 其中 X 和 Y（可以相同或不同）是 O、S、SO2、N-R 或键、 m 和 n（可以相同或不同）是 1 至 8 的整数，但 m + n 之和不大于 12、 Z 是键，或者，如果 X 和 Y 都是键，或者 m 和 n 都不等于 1，也可以是 O、S、SO2 或 N-R1，或者，如果 X 和 Y 都是键，也可以是 CO、在 2 位被氧代基团任选取代的 1,3-环戊烯或在 2 位被氧代基团任选取代的 1,3-环己烯和/或在 5 位被具有 1 至 6 个碳原子的烷基任选取代的 1,3-环己烯、 R 和 R'可以是相同或不同的 H、卤素或具有 1 至 6 个碳原子的烷基，以及 R1 是 H 或具有 1-6 个碳原子的烷基、 但-X-CmH2m-Z-CnH2n-Y-不是-(CH2)2-或-( )3-，对远紫外光具有高灵敏度，因此适合用作对远紫外光敏感的底片加工组合物中的光敏成分。利用本发明的光敏组合物进行光刻的浮雕结构具有优异的机械性能和高分辨率。它们适用于微型电路的光刻生产。