(4-Methylsulfonyloxyimino-cyclohexa-2,5-dienylidene)-(4-methylthiophenyl)-acetonitrile | 219651-49-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: (4-Methylsulfonyloxyimino-cyclohexa-2,5-dienylidene)-(4-methylthiophenyl)-acetonitrile
• CAS: 219651-49-7
• 化学式: C₁₆H₁₄N₂O₃S₂
• 分子量: 346.431
• InChiKey: DFZXWSRNQJDESN-UIHWIVBSSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.14
• 重原子数：
  23.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  79.52
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

文献信息

• NEW OXIME SULFONATES AND THE USE THEREOF AS LATENT SULFONIC ACIDS
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

  公开号：EP0993445B1

  公开（公告）日：2002-08-28
• US6004724A
  申请人：——

  公开号：US6004724A

  公开（公告）日：1999-12-21
• [EN] NEW OXIME SULFONATES AND THE USE THEREOF AS LATENT SULFONIC ACIDS<br/>[FR] NOUVEAUX OXIMES SULFONATES ET LEUR UTILISATION EN TANT QU'ACIDES SULFONIQUES LATENTS
  申请人：CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

  公开号：WO1999001429A1

  公开（公告）日：1999-01-14

  (EN) New oximsulfonate compounds of formulae (I) or (II), wherein m is 0 or 1; x is 1 or 2; R1 is, for example phenyl, which is unsubstituted or substituted or R1 is a heteroaryl radical that is unsubstituted or substituted, or, if m is 0, R1 additionally is C2-C6alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl or CN; R'1 is for example C2-C12alkylene, phenylene; R2 has for example one of the meanings of R1; n is 1 or 2; R3 is for example C1-C18alkyl, R'3 when x is 1, has one of the meanings given for R3, or R'3 in formula (IV) and when x is 2 in formula (I), is for example C2-C12 alkylene, phenylene; R4 and R5 are independently of each other for example hydrogen, halogen, C1-C6alkyl; R6 is for example hydrogen, phenyl; R7 and R8 are independently of each other for example hydrogen or C1-C12alkyl; R9 is for example C1-C12alkyl; A is S, O, NR6, or a group of formula (A1), (A2), (A3) or (A4); R10 and R11 independently of each other have one of the meanings given for R4; R12, R13, R14 and R15 independently of one another are for example hydrogen, C1-C4alkyl; Z is CR11 or N; Z1 is -CH2-, S, O or NR6, are useful as latent sulfonic acids, especially in photoresist applications.(FR) L'invention concerne des nouveaux composés d'oxime sulfonate correspondant aux formules (I) ou (II) dans lesquelles m vaut 0 ou 1, x vaut 1 ou 2, R1 représente phényle, substitué ou non, ou R1 représente un radical hétéroaryle substitué ou non, ou si m vaut 0, R1 peut représenter en outre alcoxycarbonyle C2-C6, phénoxycarbonyle ou CN, R'1 représente alkylène C2-C12, phénylène, R2 peut avoir l'une des significations de R1, n vaut 1 ou 2, R3 représente alkyle C1-C18, R'3, lorsque x vaut 1, possède l'une des significations de R3, ou bien R'3 dans la formule (IV) -lorsque x vaut 2 dans la formule (I)- représente alkylène C2-C12, phénylène, R4 et R5 représentent chacun indépendamment hydrogène, halogène, alkyle C1-C6, R6 représente hydrogène, phényle, R7 et R8 représentent chacun indépendamment hydrogène ou alkyle C1-C12, R9 représente alkyle C1-C12, A représente S, O, NR6 ou un groupe des formules (A1), (A2), (A3) ou (A4), R10 et R11 représentent chacun indépendamment l'une des significations données pour R4; R12, R13, R14 et R15 représentent indépendamment hydrogène, alkyle C1-C4, Z représente CR11 ou N, Z1 représente -CH2-, S, O ou NR6. Ces composés sont utiles en tant qu'acides sulfoniques latents, notamment dans des applications de photorésist.