2-cyano-3-oxo-3[3-(trifluoromethyl)phenoxy]propyl methacrylate | 1370437-32-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 2-cyano-3-oxo-3[3-(trifluoromethyl)phenoxy]propyl methacrylate
• 英文别名: [3-(Trifluoromethyl)phenyl] 2-cyano-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propanoate；[3-(trifluoromethyl)phenyl] 2-cyano-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propanoate
• CAS: 1370437-32-3
• 化学式: C₁₅H₁₂F₃NO₄
• 分子量: 327.26
• InChiKey: OAGAWYWNWQWOJH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  76.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  间三氟甲基苯酚 以78%的产率得到2-cyano-3-oxo-3[3-(trifluoromethyl)phenoxy]propyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  [问题] 在液体浸润光刻后，减少薄膜表现出降低的疏水性所需的时间，同时允许薄膜表面在液体浸润光刻期间表现出高疏水性。[解决方案] 包括（A）聚合物和（B）光酸发生剂的辐射敏感树脂组合物，其中重复单元（a1）包括重复单元（a1）和氟原子，并且（a1）包括以下任意一种公式（1-1）至（1-3）所示的基团。

  公开号：

  US20120082934A1

文献信息

• US8603726B2
  申请人：——

  公开号：US8603726B2

  公开（公告）日：2013-12-10
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Nakahara Kazuo

  公开号：US20120082934A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  [Problem] To reduce the time required for a film to exhibit decreased hydrophobicity after liquid immersion lithography while allowing the surface of a film to exhibit high hydrophobicity during liquid immersion lithography. [Solution] A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer that includes a repeating unit (a1) and a fluorine atom, and (B) a photoacid generator, the repeating unit (a1) including a group shown by any of the following formulas (1-1) to (1-3).

  [问题] 在液体浸润光刻后，减少薄膜表现出降低的疏水性所需的时间，同时允许薄膜表面在液体浸润光刻期间表现出高疏水性。[解决方案] 包括（A）聚合物和（B）光酸发生剂的辐射敏感树脂组合物，其中重复单元（a1）包括重复单元（a1）和氟原子，并且（a1）包括以下任意一种公式（1-1）至（1-3）所示的基团。