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2-m-tolylbutanenitrile | 1320214-54-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-m-tolylbutanenitrile
英文别名
2-(m-Tolyl)butanenitrile;2-(3-methylphenyl)butanenitrile
2-m-tolylbutanenitrile化学式
CAS
1320214-54-7
化学式
C11H13N
mdl
——
分子量
159.231
InChiKey
IJORUAFSKBYHIK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    23.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2-溴丁腈3-甲基苯硼酸potassium phosphate四(三苯基膦)镍 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 3.0h, 以81%的产率得到2-m-tolylbutanenitrile
    参考文献:
    名称:
    Novel α-arylnitriles synthesis via Ni-catalyzed cross-coupling of α-bromonitriles with arylboronic acids under mild conditions
    摘要:
    一种适用且易于操作的镍催化剂可用于促进α-溴腈与各种芳基硼酸的直接芳基化反应,在温和条件下构建α-芳基腈。这一方法对底物中的β-氢和官能团具有良好的耐受性。
    DOI:
    10.1039/c1ob05326d
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文献信息

  • [EN] MODULATORS OF HSD17B13 AND METHODS OF USE THEREOF<br/>[FR] MODULATEURS DE HSD17B13 ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION
    申请人:REGENERON PHARMA
    公开号:WO2021003295A1
    公开(公告)日:2021-01-07
    The disclosure relates to compounds and pharmaceutical compositions capable of modulating the hydroxysteroid 17-beta dehydrogenase (HSD17B) family member proteins including inhibiting the HSD17B member proteins, e.g. HSD17B13. The disclosure further relates to methods of treating liver diseases, disorders, or conditions with the compounds and pharmaceutical compositions disclosed herein, in which the HSD17B family member protein plays a role.
    本公开涉及能够调节羟基类固醇17-β脱氢酶(HSD17B)家族成员蛋白的化合物和药物组合物,包括抑制HSD17B家族成员蛋白,例如HSD17B13。本公开还涉及使用此处披露的化合物和药物组合物治疗肝脏疾病、障碍或状况的方法,其中HSD17B家族成员蛋白发挥作用。
  • METHODS OF POST CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING USING AMIDOXIME COMPOSITIONS
    申请人:Lee Wai Mun
    公开号:US20090133716A1
    公开(公告)日:2009-05-28
    The invention relates to a method for the removal of residues and contaminants from metal or dielectric surfaces and to a method for chemical mechanical polishing of a copper or aluminum surface. The methods of the invention include using an aqueous amidoxime complex agent. Optionally, the pH of the solution can be adjusted with an acid or base. The method includes applying the above composition to the copper or aluminum surface and polishing the surface in the presence of the composition.
    本发明涉及一种从属或介电表面去除残留物和污染物的方法,以及一种化学机械抛光或铝表面的方法。本发明的方法包括使用溶性的酰胺络合剂。可选地,可以使用酸或碱调整溶液的pH值。该方法包括将上述组合物应用于或铝表面,并在组合物存在的情况下抛光表面。
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