5-[(3,4-Dihydroxy-5-methylphenyl)methyl]-3-methylbenzene-1,2-diol | 33255-23-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 5-[(3,4-Dihydroxy-5-methylphenyl)methyl]-3-methylbenzene-1,2-diol
• CAS: 33255-23-1
• 化学式: C₁₅H₁₆O₄
• 分子量: 260.29
• InChiKey: NHVGTYSLRPZLJR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

文献信息

• [EN] COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM CAPABLE OF WET ETCHING, CONTAINING HETEROCYCLIC COMPOUND HAVING DICYANOSTYRYL GROUP<br/>[FR] COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT UN COMPOSÉ HÉTÉROCYCLE POSSÉDANT UN GROUPE DICYANOSTYRYL ET PERMETTANT UNE GRAVURE HUMIDE<br/>[JA] ジシアノスチリル基を有する複素環化合物を含むウェットエッチング可能なレジスト下層膜形成組成物
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORP

  公开号：WO2020255984A1

  公开（公告）日：2020-12-24

  レジスト溶剤やアルカリ水溶液であるレジスト現像液に良好な耐性を示しつつ、ウェットエッチング薬液のみに除去性、好ましくは溶解性を示すレジスト下層膜を提供する。溶剤、及びジシアノスチリル基を有する複素環化合物、例えばアミド基を含む環状化合物、例えば活性プロトン化合物とエポキシ基を有する複素環化合物前駆体との反応生成物、を含む、レジスト下層膜形成組成物。