4,5-二甲氧基-1,3-二甲基咪唑烷-2-酮 | 13464-10-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑烷类
• 中文名称: 4,5-二甲氧基-1,3-二甲基咪唑烷-2-酮
• 英文名称: 4,5-Dimethoxy-1,3-dimethyl-imidazolidin-2-on
• 英文别名: 4,5-Dimethoxy-2-oxo-1,3-dimethyl-imidazolidin；4,5-dimethoxy-1,3-dimethyl-imidazolidin-2-one；4,5-Dimethoxy-1,3-dimethylimidazolidin-2-one
• CAS: 13464-10-3
• 化学式: C₇H₁₄N₂O₃
• 分子量: 174.2
• InChiKey: DFRGVMDKNSXRPF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  42
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2933990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,5-二甲氧基-1,3-二甲基咪唑烷-2-酮 在 三氯氧磷 作用下， 以 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 90.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  一种3,5-二硝基苯甲酸的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种3,5‑二硝基苯甲酸的制备方法。将间二硝基苯、DMF溶剂、金属改性介孔材料负载型胍盐离子液体置于不锈钢高压反应釜中，通入二氧化碳，在80~130oC温度下，提升二氧化碳压力并保持在指定压力，搅拌反应4~20小时即可制备得到3,5‑二硝基苯甲酸，通过过滤即可分离产物有机相和催化剂相，滤液蒸馏，粗产品经乙醇重结晶得到目标产物。本发明采用金属改性介孔材料负载型胍盐离子液体在该羧化反应中具有良好的催化活性，反应工艺原子经济性高、反应过程绿色、无废酸产生、催化剂可方便的回收循环使用，是一种新型的绿色环保制备方法。

  公开号：

  CN113620808A

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20080081288A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由下式(I)所表示的化合物：其中R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，Z表示单键或二价连接基团，X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：KODAMA Kunihiko

  公开号：US20080138742A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  The invention is related to an arylsulfonium salt compound having a polycyclic hydrocarbon structure in a cation moiety.

  本发明涉及一种在阳离子部分具有多环碳氢结构的芳基磺酸盐化合物。
• DIAMINE COMPOUND, AND HEAT-RESISTANT RESIN OR HEAT-RESISTANT RESIN PRECURSOR USING SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20170334837A1

  公开（公告）日：2017-11-23

  Provided are a photosensitive resin composition which has excellent pattern processabilities (high sensitivity and high resolution) and is excellent in chemical resistance and thermal resistance after thermally treated; a heat-resistant resin or heat-resistant resin precursor used for the composition; and a diamine compound which is a raw material of the resin and the precursor. The diamine compound is a diamine compound represented by a general formula (1).

  提供了一种具有优异图案加工性（高灵敏度和高分辨率）且在热处理后具有优异化学耐性和热耐性的光敏树脂组合物；用于该组合物的耐热树脂或耐热树脂前体；以及作为树脂和前体原料的二胺化合物。该二胺化合物是由通式（1）表示的二胺化合物。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitive composition and compounds used in the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20070148592A1

  公开（公告）日：2007-06-28

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种含有特定结构化合物的光敏组合物，使用该光敏组合物的图案形成方法，以及用于该光敏组合物的特定结构化合物。