bis-(4-benzyl-phenyl)-sulfone | 74460-17-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis-(4-benzyl-phenyl)-sulfone
• 英文别名: Bis-(4-benzyl-phenyl)-sulfon；1-Benzyl-4-(4-benzylphenyl)sulfonylbenzene
• CAS: 74460-17-6
• 化学式: C₂₆H₂₂O₂S
• 分子量: 398.525
• InChiKey: RPYJBDOBNKOTRP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.6
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  42.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 三氯化铝 、 苯 作用下， 生成 bis-(4-benzyl-phenyl)-sulfone
  参考文献：
  名称：

  Genvresse, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1894, vol. <3> 11, p. 501

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel sulphonylating reagent: sulphuric acid–hexafluoroacetic anhydride
  作者：Themba E. Tyobeka、Richard A. Hancock、Helmut Weigel

  DOI：10.1039/c39800000114

  日期：——

  A mixture of sulphuric acid and hexafluoroacetic anhydride is an efficient reagent for the sulphonylaction of aromatic compounds.

  硫酸和六氟乙酸酐的混合物是用于芳族化合物磺酰化的有效试剂。
• TYOBEKA T. E.; HANCOCK R. A.; WEIGEL H., J. CHEM. SOC. CHEM. COMMUN., 1980, NO 3 114-115
  作者：TYOBEKA T. E.、 HANCOCK R. A.、 WEIGEL H.

  DOI：——

  日期：——
• [EN] DECOMPOSING/CLEANING COMPOSITION, METHOD FOR CLEANING ADHESIVE POLYMER, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE WAFER<br/>[FR] COMPOSITION DE DÉCOMPOSITION/NETTOYAGE, PROCÉDÉ POUR LE NETTOYAGE D'UN POLYMÈRE ADHÉSIF ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UNE TRANCHE DE DISPOSITIF<br/>[JA] 分解洗浄組成物、接着性ポリマーの洗浄方法、及びデバイスウェハの製造方法
  申请人：SHOWA DENKO KK

  公开号：WO2020148968A1

  公开（公告）日：2020-07-23

  高いエッチング速度を有しており、デバイスウェハなどの基材と固定テープなどの粘着層の接触界面への浸入が抑制された、接着性ポリマーの分解洗浄組成物が提供される。一実施態様の分解洗浄組成物は、第四級フッ化アルキルアンモニウム又は第四級フッ化アルキルアンモニウムの水和物と、非プロトン性溶媒とを含む、接着性ポリマーの分解洗浄組成物であって、非プロトン性溶媒が、（Ａ）窒素原子上に活性水素を有さないＮ－置換アミド化合物、及び（Ｂ）スルホキシド化合物及びスルホン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の有機硫黄酸化物を含む。
• [EN] METAL COMPLEX AND ELECTRON TRANSPORTING MATERIAL COMPRISING SAME<br/>[FR] COMPLEXE MÉTALLIQUE ET MATÉRIAU DE TRANSPORT D'ÉLECTRONS LE COMPRENANT<br/>[JA] 金属錯体およびそれを用いた電子輸送材料
  申请人：DYDEN CORP

  公开号：WO2021066123A1

  公开（公告）日：2021-04-08

  電子輸送材料として使用できる新規の金属錯体を提供する。下記式（１）～下記式（３）で表される金属錯体。ＲA1～ＲA9、ＲC1～ＲC8、ＲE1～ＲE6は、それぞれ独立に、単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、又は－ＲP1－Ｐ（＝Ｏ）ＲP2－ＲP3－で表される基であり、ＲB1～ＲB9、ＲD1～ＲD8、ＲF1～ＲF6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、ハロゲン原子、又はヒドロキシ基であり、ＲB1～ＲB9からなる群から選択される１個以上、ＲD1～ＲD8からなる群から選択される１個以上、及びＲF1～ＲF6からなる群から選択される１個以上はフェナントロリニル基であり、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、Ｚは１または２であり、Ｘは、ＯまたはＳである。