6,6'-methylene(2,4-dimethylaniline) | 114815-25-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 6,6'-methylene(2,4-dimethylaniline)
• 英文别名: bis-(2-amino-3,5-dimethyl-phenyl)-methane；Bis-(2-amino-3,5-dimethyl-phenyl)-methan；2-[(2-Amino-3,5-dimethylphenyl)methyl]-4,6-dimethylaniline
• CAS: 114815-25-7
• 化学式: C₁₇H₂₂N₂
• 分子量: 254.375
• InChiKey: MAUWEKGDVIGQJT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  52
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Beschichtetes Material enthaltend eine strahlungsempfindliche Polyimidschicht mit speziellen Diaminodiphenylmethaneinheiten
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0252883A1

  公开（公告）日：1988-01-13

  Beschrieben wird beschichtetes Material aus mindestens, einem Träger und einer darüberliegenden strahlungsemp-' findlichen zumindest teilweise cyclisierten Polyamidsäureschicht oder einer Polyimidschicht, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymere mindestens 5 Mol-% an Struktureinheiten der Formel I enthält worin Q ein unsubstituierter oder substituierter vierwertiger diarylketonhatiger Rest ist, an den je zwei Carbonylgruppen in ortho- oder peri-Position gebunden sind, R1 einen Rest der Formel II darstellt worin R2 und R3 Alkyl, Cycloylkyl oder Aralkyl bedeuten oder jeweils zwei Reste R2 oder R3 eine Tetramethylenkette bilden und m und n unabhängig voneinander ganze Zahlen von 0 bis 4 sind. Die verwendeten Polymeren zeichnen sich durch eine verbesserte Lichtempfindlichkeit gegenüber strukturell ähnlichen Verbindungen aus. Mit dem beschichteten Material lassen sich insbesondere Schutzüberzüge, Filme oder Reliefabbildungen herstellen.

  一种涂层材料，包括至少一个支撑体和至少部分环化的聚酰胺酸层或对辐射敏感的聚酰亚胺层，其特征在于该聚合物含有至少 5 摩尔%的式 I 结构单元，其中 Q 是未取代或取代的含四价二芳基酮的自由基，每个自由基上有两个羰基在正位或周位键合。 其中 Q 是未取代或取代的含四价二芳基酮的基团，每个基团在正位或周位键合两个羰基，R1 是式 II 的基团 其中 R2 和 R3 为烷基、环烷基或芳烷基，或在每种情况下，两个基 R2 或 R3 形成四亚甲基链，且 m 和 n 互不相关，均为 0 至 4 的整数。 与结构相似的化合物相比，所使用的聚合物具有更好的光敏性。涂层材料尤其可用于生产保护涂层、薄膜或浮雕图像。
• Radiation sensitive polymer composition
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP0878740A1

  公开（公告）日：1998-11-18

  An actinic radiation sensitive polymer composition containing (a) a polyimide precursor obtainable by the interaction of an amine compound having a photocrosslinking group with carboxyl groups of a poly(amic acid) chain, and (b) a photoinitiator and/or photosensitizer, in which the degree of imidization Ia is 0.03 ≤ Ia ≤ 0.6, has the characteristic features of both good stability of viscosity with lapse of time and good photosensitive performance.

  一种对辐照敏感的聚合物组合物，其中含有 (a) 聚酰亚胺前体，可通过具有光交联基团的胺化合物与聚(氨基)酸链的羧基相互作用获得，以及 (b) 光引发剂和/或光敏剂、 其中亚胺化程度 Ia 为 0.03 ≤ Ia ≤ 0.6，具有随时间推移粘度稳定性好和光敏性能好的特点。
• Photostrukturierbare Polyimidmischungen, Polyimide auf Basis von Benzhydroltetracarbonsäure und deren Herstellung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0274354B1

  公开（公告）日：1992-01-08
• US4208507A
  申请人：——

  公开号：US4208507A

  公开（公告）日：1980-06-17
• US4851506A
  申请人：——

  公开号：US4851506A

  公开（公告）日：1989-07-25