S-Ethyl-isopropylthiocarbonat | 35363-43-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫代缩醛
• 英文名称: S-Ethyl-isopropylthiocarbonat
• 英文别名: Propan-2-yl ethylsulfanylformate
• CAS: 35363-43-0
• 化学式: C₆H₁₂O₂S
• 分子量: 148.226
• InChiKey: BYMBBRUJLZRLFV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  51.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

文献信息

• SCHICHTAUFBAU FÜR DIE BELICHTUNG VON HOLOGRAMMEN
  申请人：Covestro Deutschland AG

  公开号：EP3772671A1

  公开（公告）日：2021-02-10

  Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau geeignet zum Einschreiben eines Hologramms umfassend eine flächig vorliegende Photopolymerschicht A und einen Schichtverbund C-D bestehend aus einer gefärbten Substratschicht D und einer flächig mit der Substratschicht D verbundenen und mit mindestens einem Farbstoff eingefärbten Klebstoffschicht C, einen Schichtverbund C-D, ein Kit-of-parts, Verfahren zur Herstellung der Schichtverbünde sowie deren Verwendung.

  本发明涉及一种适用于刻制全息图的层结构，该层结构包括存在于平面上的感光聚合物层 A 和层复合材料 C-D，层复合材料 C-D 由彩色基材层 D 和在平面上与基材层 D 连接并用至少一种染料着色的粘合剂层 C 组成，层复合材料 C-D、部件包、生产层复合材料的工艺及其用途。
• CYCLOALKYL-SUBSTITUTED IMIDAZOLE DERIVATIVE
  申请人：Daiichi Sankyo Company, Limited

  公开号：EP2548871B1

  公开（公告）日：2017-07-19
• HOLOGRAPHISCHES MEDIUM ENTHALTEND EINE PHOTOPOLYMERSCHICHT ZUR HOLOGRAPHISCHEN BELICHTUNG UND EINE LACKSCHICHT HOHER BESTÄNDIGKEIT
  申请人：Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG

  公开号：EP3622511B1

  公开（公告）日：2022-04-27
• FOLIENAUFBAU ENTHALTEND EINE PHOTOPOLYMERSCHICHT ZUR HOLOGRAPHISCHEN BELICHTUNG UND EINE LACKSCHICHT HOHER BESTÄNDIGKEIT
  申请人：Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG

  公开号：EP3622512B1

  公开（公告）日：2022-04-27
• SCHUTZSCHICHT FÜR PHOTOPOLYMER
  申请人：Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG

  公开号：EP3658989B1

  公开（公告）日：2021-05-05