4-azido-4'-methoxydiphenylamine | 1338226-88-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-azido-4'-methoxydiphenylamine
• 英文别名: 4-azido-N-(4-methoxyphenyl)aniline
• CAS: 1338226-88-2
• 化学式: C₁₃H₁₂N₄O
• 分子量: 240.264
• InChiKey: MHQFHKKRPPURPO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  35.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  凡拉明蓝盐B 在 sodium azide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 24.0h， 以81%的产率得到4-azido-4'-methoxydiphenylamine
  参考文献：
  名称：

  快速染料盐可在多步一锅串联点击转换中快速获得叠氮芳烃合成子

  摘要：

  该研究检查了市售的重氮盐是否可以用作一锅多步点击转化中的有效芳香叠氮化物前体。在CuSO 4 /Na 抗坏血酸盐催化剂与1:1 t- BuOH/H 2 O 溶剂的点击反应条件下，对七种不同的重氮盐，包括固红RC、固蓝B、固克林斯V 和Variamine Blue B 进行了研究。与末端炔烃和二炔共反应物的两步串联反应产生了 1,2,3-三唑产物，产率为 66-88%，而与三甲基甲硅烷基保护的炔烃和二炔共反应物的三步串联反应产生了 1, 2,3-三唑产品的产率为 61-78%。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2011.08.069

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：Kansai Research Institute (KRI)

  公开号：EP0962825A1

  公开（公告）日：1999-12-08

  A photosensitive resin composition comprises a base resin (e.g., novolak resins, polyvinylphenol-series polymers), a first photoactive ingredient (e.g., diazobenzoquinone derivatives, diazonaphthoquinone derivatives) and a second photoactive ingredient (e.g., mixtures with azide compounds) each having an absorption range at wavelength λ1 or λ2, the wavelengths thereof being different from each other. Between the first and second photoactive ingredients, at least one photoactive ingredient is substantially inert at the absorption wavelength of the other. After exposing the photosensitive resin composition to a light to form a pattern, the whole surface of the photosensitive layer is exposed to a light of the other wavelength to make the surface hardly soluble (in the case a positive pattern is formed) or readily soluble (in the case a negative pattern is formed) in a developer, and developed, thereby forming a pattern of high resolution. Utilizing an existing exposure system, there can be obtained photosensitive resin compositions (especially, resists for semiconductor production) having improved sensitivity and resolution.

  光敏树脂组合物包括基体树脂（如酚醛树脂、聚乙烯基苯酚系列聚合物）、第一种光活性成分（如重氮苯醌衍生物、重氮萘醌衍生物）和第二种光活性成分（如与叠氮化合物的混合物），每种光活性成分在波长λ1或λ2处均有吸收范围，其波长互不相同。在第一种和第二种光活性成分之间，至少有一种光活性成分在另一种光活性成分的吸收波长处基本上是惰性的。将感光树脂组合物曝光形成图案后，将感光层的整个表面曝光在另一波长的光下，使其表面难溶于显影剂（在形成正图案的情况下）或易溶于显影剂（在形成负图案的情况下），然后进行显影，从而形成高分辨率的图案。利用现有的曝光系统，可以获得具有更高灵敏度和分辨率的光敏树脂组合物（特别是用于半导体生产的抗蚀剂）。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, DISPLAY MEMBER, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1980910A1

  公开（公告）日：2008-10-15

  Disclosed is a photosensitive composition comprising 50 to 5% by weight of a photosensitive organic component and 50 to 95% by weight of a glass powder, wherein the glass powder contains 70 to 85% by weight of Bi2O3, 3 to 15% by weight of SiO2, 5 to 20% by weight of B2O3, 0 to 3% by weight of ZrO2 and 1 to 10% by weight of ZnO, expressed in terms of oxide. The present invention provides a photosensitive composition which enables fine pattern work by photolithography to be used in various members of a flat panel display and a fluorescence emission tube.

  本发明公开了一种光敏组合物，该组合物包括50-5%（重量）的光敏有机组分和50-95%（重量）的玻璃粉，其中玻璃粉含有70-85%（重量）的Bi2O3、3-15%（重量）的SiO2、5-20%（重量）的B2O3、0-3%（重量）的ZrO2和1-10%（重量）的ZnO，以氧化物表示。 本发明提供了一种光敏组合物，它可以在平板显示器和荧光发射管的各种部件中使用光刻技术进行精细图案加工。
• Photosensitive Composition, Display Member, and Process for Producing The Same
  申请人：Ueoka Takenori

  公开号：US20090004597A1

  公开（公告）日：2009-01-01

  Disclosed is a photosensitive composition comprising to 5% by weight of a photosensitive organic component and 50 to 95% by weight of a glass powder, wherein the glass powder contains 70 to 85% by weight of Bi 2 O 3 , 3 to 15% by weight of SiO 2 , 5 to 20% by weight of B 2 O 3 , 0 to 3% by weight of ZrO 2 and 1 to 10% by weight of ZnO, expressed in terms of oxide. The present invention provides a photosensitive composition which enables fine pattern work by photolithography to be used in various members of a flat panel display and a fluorescence emission tube.
• US6440632B2
  申请人：——

  公开号：US6440632B2

  公开（公告）日：2002-08-27