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Di-(4-amino-2-carboxyphenyl)-methan | 25464-98-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Di-(4-amino-2-carboxyphenyl)-methan
英文别名
NCI-37136;5-Amino-2-[(4-amino-2-carboxyphenyl)methyl]benzoic acid
Di-(4-amino-2-carboxyphenyl)-methan化学式
CAS
25464-98-6
化学式
C15H14N2O4
mdl
——
分子量
286.287
InChiKey
KCPWJKXOTLIBRH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.5
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.07
  • 拓扑面积:
    127
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    6

文献信息

  • NOVEL POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND USE THEREOF
    申请人:Fujihara Kan
    公开号:US20100132989A1
    公开(公告)日:2010-06-03
    An object of the present invention is to provide a polyimide precursor composition solution that (i) uses no siloxane diamine, (ii) is curable at low temperature (not more than 250° C.) and (iii) has low viscosity regardless of its high concentration, and a photosensitive resin composition, photosensitive resin film, a thermosetting resin composition, a polyimide insulating film, and a printed wiring board with an insulating film, each of which has good physical properties and is obtained by use of the polyimide precursor composition solution. The foregoing object is attained by using a polyimide precursor composition solution which includes at least a (A) urethane imide oligomer having a terminal carboxylic acid group and a (B) diamino compound and/or isocyanate compound.
    本发明的目的是提供一种聚酰亚胺前体组成物溶液,其(i)不使用硅氧烷二胺,(ii)可在低温(不超过250℃)下固化,且(iii)具有低粘度,无论其浓度如何,并提供一种光敏树脂组成物、光敏树脂膜、热固性树脂组成物、聚酰亚胺绝缘膜以及带有绝缘膜的印制电路板,每种产品都具有良好的物理性能,并通过使用聚酰亚胺前体组成物溶液获得。通过使用聚酰亚胺前体组成物溶液,该溶液至少包括(A)具有端羧基的聚酰亚胺寡聚体和(B)二胺化合物和/或异氰酸酯化合物,从而实现了上述目的。
  • Polyimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0132221A1
    公开(公告)日:1985-01-23
    Homo- und Copolyimide aus aromarischen Tetracarbonsäuren und aromatischen Diaminen, die in beiden Orthostellungen mindestens eines N-Atomes durch Alkyl, Alkoxy, Alkoxyalkyl, Cycloalkyl oder Aralkyl substituiert sind, sind in organischen Lösungsmitteln löslich und weisen erhöhte Glasumwandlungstemperaturen und damit sehr gute Thermostabilitäten auf. Solche Polyimide, die Reste von einer Banzophenontetracarbonsäure enthalten, sind strahlungsempfindlich und autophotovernetzbar. Die Polyimide eignen sich zur Herstellung von Filmen, Schutzüberzügen und photographischen Reliefabbildungen.
    芳香族四羧酸和芳香族二胺的均聚酰亚胺和共聚酰亚胺(在至少一个 N 原子的两个正交位置上被烷基、烷氧基、烷氧基烷基、环烷基或芳烷基取代)可溶于有机溶剂,并显示出较高的玻璃化转变温度,因此具有非常好的热稳定性。这种聚酰亚胺含有二苯甲酮羧酸残基,对辐射敏感,可自光交联。这种聚酰亚胺适用于生产薄膜、保护涂层和照相浮雕图像。
  • Beschichtetes Material und seine Verwendung
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0134752A1
    公开(公告)日:1985-03-20
    Beschichtetes Material aus einem Träger auf dem eine strahlungsempfindliche aus einem Homo- oder Copolymer mit mindestens 5 Mol.-%, bezogen auf das Polymer, Struktureinheiten der Formel 1 worin R ein zweiwertiger aliphatischer Rest, der durch Heteroatome, aromatische, heterocyclische oder cycloaliphatische Gruppen unterbrochen sein kann, ein cycloaliphatischer, heterocyclischer oder araliphatischer Rest, ein aromatischer Rest, bei dem zwei Arylkerne über eine aliphatische Gruppe verknüpft sind, oder ein durch mindestens eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Alkoxyalkylgruppe, Alkylthiogruppe, Alkylthioalkylgruppe, Hydroxyalkylgruppe, Hydroxyalkoxygruppe, Hydroxyalkylthiogruppe, Aralkylgruppe oder zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch eine Alkylengruppe substituierter aromatischer Rest ist, R' unabhängig die gleiche Bedeutung wie R hat und q für 0 oder 1 steht, wobei R als aromatischer Rest nicht durch Alkylen und nicht durch die zuvor genannten Reste substituiert ist, wenn q = 0 ist, aufgebracht ist. Die Schicht kann direkt durch Strahlungseinwirkung vernetzt werden. Das Material eignet sich z.B zur Herstellung von Schutzfilmen und von Reliefabbildungen.
    一种涂层材料,包括一种支撑物,在该支撑物上有一种辐射敏感的均聚物或共聚物,该均聚物或共聚物含有至少 5 摩尔%的式 1 结构单元(以聚合物为基数)。 烷基、羟基烷基、羟基烷氧基、羟基烷基、芳基或被亚烷基取代的芳香基的两个相邻 C 原子,R'独立地具有与 R 相同的含义,q 为 0 或 1,其中作为芳香基的 R 在 q = 0 时未被亚烷基取代,也未被前面提到的基取代。该层可通过辐射直接交联。这种材料适用于制作保护膜和浮雕图像等。
  • Strahlungsempfindliches Beschichtungsmittel und dessen Verwendung
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0141781A2
    公开(公告)日:1985-05-15
    Polyimide aus aromatischen Tetracarbonsäurederivaten und aromatischen Diaminen, bei denen beide ortho-Stellungen zu einem an eine Imidgruppe des Polymeren gebundenen Phenylenrest durch Alkylgruppen substituiert sind, können zusammen mit organischen chromophoren Polyaziden durch Bestrahlung vernetzt werden. Lösungen der genannten Polyimide und Polyazide in organischen Lösungsmitteln können als strahlungsempfindliche Beschichtungsmittel z.B. zur Herstellung von lsolier- und Schutzlacken und insbesondere zur Herstellung gedruckter Schaltungen und integrierter Schaltkreise verwendet werden.
    芳香族四羧酸生物的聚酰亚胺和芳香族二胺,其中与聚合物的酰亚胺基键合的苯基残基的两个正交位均被烷基取代,可通过辐照与有机发色性多氮化物交联在一起。 上述聚酰亚胺和多氮化物在有机溶剂中的溶液可用作辐射敏感涂层剂,例如用于生产绝缘漆和保护漆,特别是用于生产印刷电路和集成电路。
  • Verfahren zur Herstellung von Filmen und Reliefabbildungen aus Polyimiden
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0181837A2
    公开(公告)日:1986-05-21
    Polyimide die im wesentlichen aus 0,1 bis 100 Mol-% mindestens eines Strukturelementes der Formel I und 99,9 bis 0 Mol-% mindestens eines Strukturelementes der Formel II und/oder III bestehen, worin Z, Z', Q', X und X' die in Anpruch 1 angegebene Bedeutung haben, sind autophotovernetzbar. Sie eignen sich zur Herstellung von Schutzfilmen und photographischen Reliefabbildungen.
    酰亚胺主要由 0.1 至 100 摩尔%的至少一种式 I 结构元素和 99.9 至 0 摩尔%的至少一种式 II 和/或 III 结构元素组成,其中 Z、Z'、Q'、X 和 X'具有权利要求 1 中给出的含义,可自动交联。 它们适用于生产保护膜和照相浮雕图像。
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