adipic acid bis-(4-butyl-phenyl ester) | 103156-50-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: adipic acid bis-(4-butyl-phenyl ester)
• 英文别名: Adipinsaeure-bis-(4-butyl-phenylester)；Bis(4-butylphenyl) hexanedioate
• CAS: 103156-50-9
• 化学式: C₂₆H₃₄O₄
• 分子量: 410.554
• InChiKey: XAXJCKOQKDLFAE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.5
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  15
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.46
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-丁基苯酚 、 己二酸酐 在 吡啶 作用下， 生成 adipic acid mono-(4-butyl-phenyl ester) 、 adipic acid bis-(4-butyl-phenyl ester)
  参考文献：
  名称：

  Beiträge zur Darstellung und bakteriziden Wirkung von Halbestern niederer Dicarbonsäuren mit Phenolen

  摘要：

  DOI：

  10.1002/ardp.19542870908

文献信息

• [EN] LITHOGRAPHIC TOOL IN SITU CLEAN FORMULATIONS<br/>[FR] FORMULATIONS DE NETTOYAGE IN SITU D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
  申请人：ADVANCED TECH MATERIALS

  公开号：WO2010088194A2

  公开（公告）日：2010-08-05

  Compositions and methods of using said composition for removing polymeric materials from surfaces, preferably cleaning contaminant buildup from a lithography apparatus without total disassembly of said apparatus.
• Beiträge zur Darstellung und bakteriziden Wirkung von Halbestern niederer Dicarbonsäuren mit Phenolen
  作者：Hans Vogt、Werner Rosenberg

  DOI：10.1002/ardp.19542870908

  日期：——