trichloro[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]stannane | 650583-82-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: trichloro[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]stannane
• 英文别名: 2,4,6-(CF3)3C6H2SnCl3；Stannane, trichloro[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]-；trichloro-[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]stannane
• CAS: 650583-82-7
• 化学式: C₉H₂Cl₃F₉Sn
• 分子量: 506.17
• InChiKey: NTQPPVXVTMBFCY-UHFFFAOYSA-K

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.61
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3,5-三(三氟甲基)苯 、 四氯化锡 在 正丁基锂 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 为溶剂， 生成 trichloro[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]stannane 、 dichlorobis[2,4,6-tris(trifluoromethyl)phenyl]stannane
  参考文献：
  名称：

  通过19F-NMR光谱初步研究几种14号芳族衍生物中三氟甲基位置的变化

  摘要：

  通过19 F-NMR光谱研究了几种14族芳族化合物中CF 3基团的位置变化。在这些化合物中，R Ñ根据EC1 4- Ñ（ñ = 1或2; E =硅，锗，或Sn; R = -2,4,6-（CF 3）3 c ^ 6 ħ 2（= AR），2,6- -（CF 3）2 C 6 H 3（= Ar'）或2,4-（CF 3）2 C 6 H 3（= Ar''）），Ar，Ar'和Ar''都非常笨重吸电子配体。在19通过化学位移揭示的这些化合物中CF 3取代基的位置变化的F‐NMR研究可能与中心元素E的电负性以及与单晶X射线衍射得出的分子内EF相互作用有关数据。这些相互作用被认为在稳定这些化合物中起重要作用。

  DOI：

  10.1002/hlca.201200389

文献信息

• The synthesis and characterisation of some Group 14 compounds containing the 2,4,6-(CF3)3C6H2, 2,6-(CF3)2C6H3 or 2,4-(CF3)2C6H3 ligands
  作者：Andrei S. Batsanov、St�phanie M. Cornet、Keith B. Dillon、Andr�s E. Goeta、Amber L. Thompson、Bao Yu Xue

  DOI：10.1039/b302544f

  日期：——

  For E = Si the synthesis is complicated by Cl/F exchange: besides Ar′2SiCl2 and Ar″2SiCl2, 19F NMR spectroscopy identified in solution Ar″2SiF2 and Ar′2SiF2. The latter was isolated and its X-ray structure determined. In all compounds, the E atom has a strongly distorted tetrahedral coordination, supplemented by short intramolecular E⋯F contacts (secondary coordination) with o-CF3 group(s).

  新的（芳基）2 ECl 2和（芳基）ECl 3化合物[E = Si，Ge或Sn;芳基= 2,4,6-（CF 3）3 C 6 H 2 （Ar），2,6-（CF 3）2 C 6 H 3 （Ar'）和/或2,4-（CF 3）3 C 通过ECl 4与2当量的ArLi或Ar'Li / Ar''Li混合物的反应制备6 H 3（Ar”）] 。后者给出主要为较少位阻产品氩“ 2根据EC1 2为E = Si或Ge，但中，Ar' 2的SnCl 2的较大的中央原子。产品的特点是元素分析，19 F和（如果适用） 119 Sn NMR光谱，和单晶X射线衍射作为Ar“ 2的SiCl 2，ArGeCl 3中，Ar 2 GeCl 2，Ar”是2 GeCl 2中，Ar 2的SnCl 2和Ar' 2的SnCl 2。对于E = Si上合成由CL / F交换复杂：除了中，Ar' 2的SiCl 2和Ar“ 2的SiCl 2，19 F
• Primary Studies on Variation in Position of Trifluoromethyl Groups in Several Aromatic Group-14 Derivatives by¹⁹F-NMR Spectroscopy
  作者：Bao Yu Xue、Keith B. Dillon

  DOI：10.1002/hlca.201200389

  日期：2013.6

  Variation in the position of CF3 groups in several aromatic Group‐14 compounds was studied by 19F‐NMR spectroscopy. In these compounds RnECl4−n (n=1 or 2; E=Si, Ge, or Sn; R=2,4,6‐(CF3)3C6H2 (=Ar), 2,6‐(CF3)2C6H3 (=Ar′), or 2,4‐(CF3)2C6H3 (=Ar″)), Ar, Ar′, and Ar″ are all bulky, strongly electron‐withdrawing ligands. The 19F‐NMR studies of the variation in position of the CF3 substituents in these

  通过19 F-NMR光谱研究了几种14族芳族化合物中CF 3基团的位置变化。在这些化合物中，R Ñ根据EC1 4- Ñ（ñ = 1或2; E =硅，锗，或Sn; R = -2,4,6-（CF 3）3 c ^ 6 ħ 2（= AR），2,6- -（CF 3）2 C 6 H 3（= Ar'）或2,4-（CF 3）2 C 6 H 3（= Ar''）），Ar，Ar'和Ar''都非常笨重吸电子配体。在19通过化学位移揭示的这些化合物中CF 3取代基的位置变化的F‐NMR研究可能与中心元素E的电负性以及与单晶X射线衍射得出的分子内EF相互作用有关数据。这些相互作用被认为在稳定这些化合物中起重要作用。