4-cyclohexyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol | 123766-40-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-cyclohexyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol
• 英文别名: 2-Hydroxy-1,3-bis-hydroxymethyl-5-cyclohexyl-benzol；4-Cyclohexyl-2,6-bis-hydroxymethyl-phenol；2,6-di(hydroxymethyl)-4-cyclohexylphenol
• CAS: 123766-40-5
• 化学式: C₁₄H₂₀O₃
• 分子量: 236.311
• InChiKey: OWTGALWHQDVEKQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-cyclohexyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol 在 sodium hydroxide 作用下， 以 盐酸 、 甲醇 为溶剂， 反应 43.0h， 生成 4-cyclohexyl-2-[[5-cyclohexyl-2-hydroxy-3-(hydroxymethyl)phenyl]methyl]-6-[(5-cyclohexyl-2-hydroxyphenyl)methyl]phenol
  参考文献：
  名称：

  Inclusion Properties of Acyclicp-Substituted Phenol–Formaldehyde Oligomers

  摘要：

  非环状对取代的酚-甲醛低聚物（R=H, Me, n-Bu, t-Bu 和环己基；酚单位数量=3-6）与各种有机化合物形成宿主- guest 复合物。非环状低聚物的包容特性受到酚的对位取代基和低聚物中酚单位数量的显著影响；例如，a) 尽管叔丁基四聚物表现有效，但对应的正丁基四聚物在复合物形成方面能力较差，b) 四聚物和五聚物对有机化合物是良好的宿主，在许多情况下形成2:1（宿主: guest）复合物。

  DOI：

  10.1246/bcsj.62.1111
• 作为产物：
  描述：

  对环己基苯酚 在 sodium hydroxide 、 聚合甲醛 作用下， 生成 4-cyclohexyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol
  参考文献：
  名称：

  Zinke; Hanus; Ziegler, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1939, vol. <2> 152, p. 126,135

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
• Pulsed 2-Dimensional Raman Spectroscopy on Microdroplets
  作者：H. Moritz、G. Schweiger

  DOI：10.1002/(sici)1521-4125(200004)23:4<361::aid-ceat361>3.0.co;2-g

  日期：2000.4

  Raman spectroscopy to determine the average concentration in the liquid phase and concentration distribution in the gas phase surrounding desorbing linear arrays of binary microdroplets. For this study, monodisperse microdroplets consisting of acetylene dissolved in acetone were generated by a modified vibrating orifice aerosol generator (VOAG). The 2-dimensional concentration fields of acetylene desorbed

  在这项研究中，我们使用基于脉冲拉曼光谱的技术来确定液相中的平均浓度和气相中围绕解吸线性二元微滴阵列的浓度分布。在这项研究中，由溶解在丙酮中的乙炔组成的单分散微滴是通过改进的振动孔气溶胶发生器 (VOAG) 产生的。从液滴中解吸的乙炔二维浓度场的空间分辨率约为 40 μm，沿液滴链方向和垂直于液滴链的方向。气相和液相浓度的检测限分别约为 100 ppm 和 1 mmol/l。
• Verfahren zur Herstellung von Hydroxybenzylphosphoniumsalzen
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0137241A1

  公开（公告）日：1985-04-17

  Herstellung von Hydroxybenzylphosphoniumsalzen durch Umsetzung von substituierten Phenolen mit tertiären Phosphinen und Säuren. Die nach dem Verfahren der Erfindung herstellbaren Phosphoniumsalze sind wertvolle Ausgangsstoffe für die Herstellung von Farnstoffen, Pharmaka und Schädlingsbekämpfungsmitteln.

  通过取代酚与叔膦和酸反应制备羟基苄基鏻盐。根据本发明工艺生产的鏻盐是生产蕨类植物、药品和杀虫剂的重要起始原料。
• OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Kansai Research Institute, Inc.

  公开号：EP1375463A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  光活性化合物与光敏剂结合使用，光敏剂由下式（1）表示： A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元，包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团；J 代表连接基团；X-Pro 代表亲水基团，该亲水基团受保护基团 Pro 的保护，该保护基团可通过光照去除；m 代表 0 或 1；n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂（特别是光酸发生器）一起进行光照射而去除，也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度，因此在抗蚀剂应用中，光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
• DEVELOPER FOR RECORDING MATERIALS
  申请人：Asahi Kasei Chemicals Corporation

  公开号：EP1637337A1

  公开（公告）日：2006-03-22

  A developer which contains a triphenolic compound (B) being a triphenolic compound (A) of the general formula (1) satisfying the requirements: (a) an OH group is present at one or more of 4- and 4'-positions of the left and right aromatic rings and (b) at least one of the substituents adjacent to at least one OH group on the left or right aromatic rings is hydrogen and which exhibits high sensitivity and image stability of images and less fog in non-image areas; and color forming materials and thermal recording materials made by using the same.

  一种含有三酚类化合物（B）的显影剂，该三酚类化合物（B）是通式（1）的三酚类化合物（A），满足以下要求：(a) 在左芳香环和右芳香环的 4- 位和 4'- 位中的一个或多个位置上有一个羟基；(b) 与左芳香环或右芳香环上的至少一个羟基相邻的取代基中至少有一个是氢，并且该显影剂具有高灵敏度和图像稳定性，非图像区域的雾气较少；以及使用该显影剂制成的色彩形成材料和热敏记录材料。