2-Carbamoyl-3-methylbenzoesaeure | 95864-05-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Carbamoyl-3-methylbenzoesaeure
• 英文别名: Methylphthalamic acid；2-carbamoyl-3-methylbenzoic acid
• CAS: 95864-05-4
• 化学式: C₉H₉NO₃
• 分子量: 179.175
• InChiKey: CNGRXEGLSOHJAI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  349.4±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.308±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  80.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

文献信息

• CYSTEINYL LEUKOTRIENE ANTAGONISTS
  申请人：Rathod Rajendrasinh

  公开号：US20140155596A1

  公开（公告）日：2014-06-05

  The present invention relates to novel cysteinyl leukotriene (specifically LTD4) antagonists, mainly to quinolin, quinoxaline or benz[c]thiazole derivatives represented by the general formula (I), or the pharmaceutically acceptable salt thereof, process of preparation thereof, and to the use of the compounds in the preparation of pharmaceutical compositions for the therapeutic treatment of disorders related to cysteinyl leukotriene, in mammals, more specially in humans.

  本发明涉及新型半胱氨酸类白三烯（特别是LTD4）拮抗剂，主要是由一般式（I）所代表的喹啉、喹喔啉或苯[c]噻唑衍生物，或其药学上可接受的盐，其制备方法，以及在哺乳动物，特别是人类中，用这些化合物制备用于治疗与半胱氨酸类白三烯相关的疾病的药物组合物。
• Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Isatosäureanhydrid
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0013900A1

  公开（公告）日：1980-08-06

  Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von lsatosäureanhydriden durch zweistufige Umsetzung von phthalamidsaurem und/oder phthalimidsaurem Alkali mit Alkalihypohalogeniten, indem die erste Stufe weitgehend adiabatisch und beide Stufen unter Verwendung hoher Strömungsgeschwindigkeiten durchgeführt werden, wobei zunächst Phthalimid und/oder Phthalamidsäure in einer bestimmten Alkalilaugenmenge gelöst werden, die Lösung mit Hypohalogeniten vermischt und bei bestimmter Temperatur umgesetzt wird, schließlich Säure zugegeben und die Reaktion bei bestimmter Temperatur zu Ende geführt wird. Die nach dem Verfahren der Erfindung herstellbaren Verbindungen sind wertvolle Ausgangsstoffe für die Herstellung von Farbstoffen, Pflanzenschutzmitteln und Riechstoffen.

  一种通过邻苯二甲酰亚胺酸和/或邻苯二甲酰亚胺酸碱与碱金属次卤化物的两阶段反应连续制备邻苯二甲酰亚胺酸酐的工艺，其中第一阶段在很大程度上以绝热方式进行，两阶段均以高流速进行，其中邻苯二甲酰亚胺和/或邻苯二甲酰亚胺酸首先溶解在特定量的碱中，溶液与次卤化物混合并在特定温度下反应，最后加入酸并在特定温度下完成反应。根据本发明的工艺可以生产出的化合物是生产着色剂、植物保护剂和香料的重要起始原料。
• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• US3984406A
  申请人：——

  公开号：US3984406A

  公开（公告）日：1976-10-05