3-Methyl-4-acetoxyphenyl-methyl-carbinol | 18625-80-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 3-Methyl-4-acetoxyphenyl-methyl-carbinol
• 英文别名: [4-(1-Hydroxyethyl)-2-methylphenyl] acetate
• CAS: 18625-80-4
• 化学式: C₁₁H₁₄O₃
• 分子量: 194.23
• InChiKey: KBNUJLDECZZTIN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

文献信息

• Poly(3-mono- and 3,5-disubstituted-4-acetoxystyrenes and 4-hydroxy-styrenes)and their use
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0307752A2

  公开（公告）日：1989-03-22

  The invention provides poly(3-mono- and 3,5-disubstituted-4-acetoxy- and 4-hydroxystyrenes) and copolymers therefrom having a molecular weight in the range of from about 1,000 to about 800,000 wherein said 3-mono and 3,5-substitution is independently C₁ to C₁₀ alkyl or alkoxy, primary or secondary amino, halogen (Br, Cl, I), NO₂ or SO₃H. The polymers are used as a binder resin in photosensi­tive compositions, wherein the light-sensitive compound is an o-quinone diazide or as an acid-forming radiation-sensitive compound in combination with a com­pound cleavable by acid.

  本发明提供分子量在约 1,000 至约 800,000 范围内的聚(3-单取代和 3,5- 二取代-4-乙酰氧基和 4-羟基苯乙烯)及其共聚物，其中所述 3-单取代和 3,5- 二取代独立地为 C₁ 至 C₁₀ 烷基或烷氧基、伯氨基或仲氨基、卤素（Br、Cl、I）、NO₂ 或 SO₃H。 这些聚合物可用作光敏组合物中的粘合剂树脂，其中的光敏化合物是邻醌重氮化物，或与可被酸裂解的化合物结合用作成酸辐射敏感化合物。
• 3-mono- and 3,5-disubstituted-4-acetoxy and -4-hydroxystyrenes and process for their production
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0307751A2

  公开（公告）日：1989-03-22

  The invention relates to 3-mono- and 3,5-disubstituted-4-acetoxy- and -4-hydroxystyrenes, wherein said substitutes are independently C₁ and C₁₀ alkyl, C₁-C₁₀) alkoxy, amino, or halogen, (Br, I, Cl), NO₂ or SO₃H, The compounds of this invention find use as intermediates of polymers, which are useful as improved binder resins for photoresists. In particular those polymers, having as substitutes at least one halogen, are useful as radiation-sensitive compounds in corresponding photoresists. Thus, the invention further relates to a process for production of said styrene derivatives.

  本发明涉及 3-单-和 3,5-二取代-4-乙酰氧基-和-4-羟基苯乙烯，其中所述取代基独立地为 C₁ 和 C₁₀ 烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氨基或卤素（Br、I、Cl）、NO₂ 或 SO₃H、本发明的化合物可用作聚合物的中间体，这些聚合物可用作光刻胶的改良粘结树脂。 特别是那些至少有一种卤素作为替代物的聚合物，在相应的光刻胶中可用作辐射敏感化合物。 因此，本发明还涉及一种生产上述苯乙烯衍生物的工艺。
• A process for the production of poly(3-mono or 3,5-disubstituted-4-Acetoxystryrenes), their copolymers and hydrolysis thereof
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0353339A2

  公开（公告）日：1990-02-07

  The present invention relates to a process for the production of poly(3-mono or 3,5-disubstituted-4-acetoxy- or -4-hydroxystyrenes) wherein the 3- or 3,5-substitution is independently (C₁-C₁₀)alkyl, (C₁-C₁₀)alkoxy, chlorine, bromine, iodi­ne, amine, -NO₂, or -SO₃H, a process for production of their copolymers and their hydrolysis.

  本发明涉及一种生产聚(3-单取代或 3,5-二取代-4-乙酰氧基-或-4-羟基苯乙烯)的工艺，其中 3-或 3、5-取代基独立地为(C₁-C₁₀)烷基、(C₁-C₁₀)烷氧基、氯、溴、碘、胺、-NO₂或-SO₃H，以及生产它们的共聚物和水解它们的工艺。
• PROCESS FOR PREPARING POLYHYDROXYSTYRENE WITH A NOVOLAK TYPE STRUCTURE
  申请人：TRIQUEST L.P.

  公开号：EP0836628B1

  公开（公告）日：2003-10-15
• US5554719A
  申请人：——

  公开号：US5554719A

  公开（公告）日：1996-09-10