S-<4-Methylsulfonyl-phenyl>-thio-glykolsaeure | 99179-78-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: S-<4-Methylsulfonyl-phenyl>-thio-glykolsaeure
• 英文别名: 2-(4-Methylsulfonylphenyl)sulfanylacetic acid
• CAS: 99179-78-9
• 化学式: C₉H₁₀O₄S₂
• 分子量: 246.308
• InChiKey: NCQSTWKOXDOWDY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  105
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

文献信息

• Heat developable light-sensitive material
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0160996A2

  公开（公告）日：1985-11-13

  A heat developable light-sensitive material capable of giving images of high density and less fog in a short period of time, and which is excellent in stability. The heat developable light-sensitive material comprises a support and is formed thereon a heat developable light-sensitive layer, wherein said light-sensitive material contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by formula (I) or (II) as a base precursor: wherein R represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group or a heterocyclic group; X represents a substituent; P represents an integer of 0 to 4; B represents a monoacidic base or diacidic base; M represents an alkali metal or an alkaline earth metal; and m represents 1 when B represents monoacidic base and represents 2 when B represents diacidic base, and m' represents the valence number of M.

  一种可热显影的感光材料，能在短时间内产生密度高、雾气少、稳定性好的图像。该热显影光敏材料包括一个支撑体，并在其上形成一个热显影光敏层，其中所述光敏材料含有至少一种选自由式（I）或（II）所代表的化合物组成的组中的化合物作为基础前体： 其中 R 代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳基或杂环基；X 代表取代基；P 代表 0 至 4 的整数；B 代表单酸基或二酸基；M 代表碱金属或碱土金属；当 B 代表单酸基时，m 代表 1，当 B 代表二酸基时，m 代表 2，m'代表 M 的价数。
• US4705737A
  申请人：——

  公开号：US4705737A

  公开（公告）日：1987-11-10