4-methoxy-N-[(trifluoromethyl)thio]aniline | 1045821-83-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-methoxy-N-[(trifluoromethyl)thio]aniline
• 英文别名: 4-methoxy-N-(trifluoromethylsulfanyl)aniline
• CAS: 1045821-83-7
• 化学式: C₈H₈F₃NOS
• 分子量: 223.219
• InChiKey: FLFPHKORWQOMTK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  46.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (三氟甲基)三甲基硅烷 、 甲氧苯胺 在 二乙胺基三氟化硫 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以75%的产率得到4-methoxy-N-[(trifluoromethyl)thio]aniline
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of Trifluoromethanesulfinamidines and -sulfanylamides

  摘要：

  Fluorinated moieties constitute important substituents used in many applications to modify the properties of molecules. The action of DAST onto Ruppert's rea gent yields to a not isolable intermediate that can then react with various primary amines to give trifluoromethanesulfinamidines and trifluoromethanesulfanylamides. Such compounds were unknown until now and constitute interesting new families of fluorinated molecules.

  DOI：

  10.1021/jo8018544

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10222696B2

  公开（公告）日：2019-03-05

  A resist composition comprising a base polymer and a biguanide salt compound offers a high dissolution contrast, minimal LWR, and dimensional stability on PPD.

  由基质聚合物和双胍盐化合物组成的抗蚀剂组合物在 PPD 上具有较高的溶解对比度、最小的 LWR 和尺寸稳定性。
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20180101094A1

  公开（公告）日：2018-04-12

  A resist composition comprising a base polymer and a metal salt of carboxylic acid or sulfonamide is provided, the metal being selected from calcium, strontium, barium, cerium, aluminum, indium, gallium, thallium scandium, and yttrium. The resist composition exhibits a sensitizing effect and an acid diffusion suppressing effect and forms a pattern having improved resolution, LWR and CDU.
• US9897914B2
  申请人：——

  公开号：US9897914B2

  公开（公告）日：2018-02-20
• US9958776B2
  申请人：——

  公开号：US9958776B2

  公开（公告）日：2018-05-01