1-(2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)ethoxy)naphthalene | 1359824-41-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-(2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)ethoxy)naphthalene
• 英文别名: 1-[2-(2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy)ethoxy]-naphthalene；1-[2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]naphthalene
• CAS: 1359824-41-1
• 化学式: C₁₇H₂₂O₄
• 分子量: 290.359
• InChiKey: VNKDKVHGSNXKHO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.41
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)ethoxy)naphthalene 在 哌啶 、 溶剂黄146 、 三氯氧磷 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 20.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  具有远红外和近红外发射特性的中，酯和羧酸取代的BODIPY，用于生物成像应用

  摘要：

  合成并表征了一系列内消旋酯取代的BODIPY衍生物1-6。特别地，染料官能化的低聚（乙二醇）醚苯乙烯基或萘亚乙烯基在BODIPY芯（的α位置3 - 6）成为部分溶于水，和它们的吸收和排放位于远红外或近红外区域。三种合成方法都试图访问所述内消旋羧酸（COOH）取代的BODIPYs 7和8从内消旋-酯取代的BODIPYs。成功开发了两条可行的合成路线，包括一条仅需三个步骤的短路线。这内消旋-COOH取代的BODIPY 7完全溶于纯水，其荧光最大值达到650 nm左右，荧光量子产率高达15％。进行了随时间变化的密度泛函理论计算，以了解结构与光学性质之间的关系，并且发现斯托克斯位移主要取决于从基态到第一激发单重态的几何变化。此外，细胞染色试验表明，内消旋-酯取代的BODIPYs（1和3 - 6）和所述的一个内消旋-COOH取代BODIPYs（8）是非常膜可透性。这些功能使这些内消旋-ester-和

  DOI：

  10.1002/chem.201303868
• 作为产物：
  描述：

  三甘醇单甲醚 、 萘酚 在 吡啶 、 氯化亚砜 作用下， 以 水 、 甲苯 为溶剂， 生成 1-(2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)ethoxy)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  提供了一种具有亲水性酚羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，带有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。

  公开号：

  US20120045724A1

文献信息

• 술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101498326B1

  公开（公告）日：2015-03-03

  본 발명은 하기 화학식(1a) 또는 (1b)로 표시되는 술포늄염을 제공한다. 상기 식 중, R은 헤테로원자를 포함해도 좋은 탄소수 7∼30의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 1가의 탄화수소기를 나타내고, n'는 1∼4의 정수를 나타낸다. 본 발명의 술포늄염은, 통상의 술포늄염과 상이하고 친수성이 높은 페놀성 수산기나 에틸렌글리콜쇄를 갖고 있고, 특정 음이온과 조합한 본 발명의 술포늄염을 레지스트 재료에 이용한 경우에는 액침수로의 용출도 적고, 또 패턴 의존성(다크 브라이트차)이 적어 화학 증폭형 레지스트 재료의 광산 발생제로서 매우 유용하다.

  本发明提供了用以下化学式（1a）或（1b）表示的锡盐。在上述式中，R表示直链、支链或环状的1个碳氢基，其包括杂原子，碳数为7〜30，n'表示1〜4的整数。本发明的锡盐具有与通常的锡盐不同的高亲水性酚性羟基或乙二醇醚，并且当将本发明的锡盐与特定阴离子组合并用于光刻胶材料时，其溶出度低，并且具有较小的模式依赖性（暗亮度），因此作为化学放大型光刻胶材料的光敏剂非常有用。
• US8535869B2
  申请人：——

  公开号：US8535869B2

  公开（公告）日：2013-09-17
• <i>meso</i>-Ester and Carboxylic Acid Substituted BODIPYs with Far-Red and Near-Infrared Emission for Bioimaging Applications
  作者：Yong Ni、Lintao Zeng、Nam-Young Kang、Kuo-Wei Huang、Liang Wang、Zebing Zeng、Young-Tae Chang、Jishan Wu

  DOI：10.1002/chem.201303868

  日期：2014.2.17

  attempted to access the meso‐carboxylic acid (COOH)‐substituted BODIPYs 7 and 8 from the meso‐ester‐substituted BODIPYs. Two feasible synthetic routes are developed successfully, including one short route with only three steps. The meso‐COOH‐substituted BODIPY 7 is completely soluble in pure water, and its fluorescence maximum reaches around 650 nm with a fluorescence quantum yield of up to 15 %. Time‐dependent

  合成并表征了一系列内消旋酯取代的BODIPY衍生物1-6。特别地，染料官能化的低聚（乙二醇）醚苯乙烯基或萘亚乙烯基在BODIPY芯（的α位置3 - 6）成为部分溶于水，和它们的吸收和排放位于远红外或近红外区域。三种合成方法都试图访问所述内消旋羧酸（COOH）取代的BODIPYs 7和8从内消旋-酯取代的BODIPYs。成功开发了两条可行的合成路线，包括一条仅需三个步骤的短路线。这内消旋-COOH取代的BODIPY 7完全溶于纯水，其荧光最大值达到650 nm左右，荧光量子产率高达15％。进行了随时间变化的密度泛函理论计算，以了解结构与光学性质之间的关系，并且发现斯托克斯位移主要取决于从基态到第一激发单重态的几何变化。此外，细胞染色试验表明，内消旋-酯取代的BODIPYs（1和3 - 6）和所述的一个内消旋-COOH取代BODIPYs（8）是非常膜可透性。这些功能使这些内消旋-ester-和
• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHSAWA Youichi

  公开号：US20120045724A1

  公开（公告）日：2012-02-23

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，带有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。