4,4′-(1,3-phenylenebis(sulfanediyl))dianiline | 118570-71-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: 4,4′-(1,3-phenylenebis(sulfanediyl))dianiline
• 英文别名: 1,3-bis-(4-amino-phenylsulfanyl)-benzene；Dithioresorcin-bis-(4-amino-phenylaether)；1,3-Bis-(4-amino-phenylmercapto)-benzol；4-[3-(4-Aminophenyl)sulfanylphenyl]sulfanylaniline
• CAS: 118570-71-1
• 化学式: C₁₈H₁₆N₂S₂
• 分子量: 324.47
• InChiKey: AXVVCRXURQOFJN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯硫醇 在 盐酸 、 sodium hydroxide 、 tin 作用下， 生成 4,4′-(1,3-phenylenebis(sulfanediyl))dianiline
  参考文献：
  名称：

  Finzi; Pagliari, Gazzetta Chimica Italiana, 1926, vol. 56, p. 336

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Environmentally Friendly and Recyclable CuCl2-Mediated C–S Bond Coupling Strategy Using DMEDA as Ligand, Base, and Solvent
  作者：Guodong Shen、Xianqiang Huang、Qichao Lu、Zeyou Wang、Weiwei Sun、Yalin Zhang、Manman Sun、Zhiming Wang

  DOI：10.1055/a-1561-5508

  日期：2022.1

  Simple reaction conditions and recyclable reagents are crucial for environmentally friendly industrial applications. An environment-friendly, recyclable and economic strategy was developed to synthesize diaryl chalcogenides by the CuCl2-catalyzed C–S bond-formation reaction via iodobenzenes and benzenethiols/1,2-diphenyldisulfanes using N,N′-dimethylethane-1,2-diamine (DMEDA) as ligand, base, and solvent

  简单的反应条件和可回收的试剂对于环保的工业应用至关重要。使用N,N'-二甲基乙烷-1,2-二胺，通过碘苯和苯硫醇/1,2-二苯基二硫烷，通过CuCl2催化的C-S键形成反应，开发了一种环境友好、可回收和经济的策略来合成二芳基硫属化物(DMEDA) 作为配体、碱和溶剂。对于这些反应，尤其是二碘苯和氨基苯硫醇/二硫烷二基二苯胺的反应，一系列底物是相容的，并以良好到极好的产率得到相应的产物。催化系统中的两种试剂 (CuCl2/DMEDA) 都很便宜，可方便地分离，并可循环使用 5 次以上。
• Aromatic polythioetheramides and process for their production
  申请人：MITSUBISHI PETROCHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0162606A1

  公开（公告）日：1985-11-27

  Aromatic polythioetheramides have repeating units represented by one or both of the following formulae and wherein X is C1-C10 divalent hydrocarbon, -0-, -S-, - SO-, - SO2- or -CO-; a is 0 or 1; Y is C,-C20 alkyl, C3-C20 cycloalkyl, C6-C20 aralkyl, C6-C20 aryl, halogen or nitro; b, c, e and f, 0 to 4; d, 0-20 and Ar is a C6-C30 aromatic ring. Repeating units derived from C6-C30 aromatic diamines may replace up to 50 mol% of the above thioetheramide units, and from 51 to 99 mol% when Ar is isophthalyl or terephthalyl. The polymers have excellent moldability, flame retardance, heat resistance and chemical resistance, and are suitable for use as engineering plastics.

  芳香族聚硫醚酰胺的重复单元由以下一个或两个式子表示 和 其中 X 为 C1-C10 二价烃、-0-、-S-、-SO-、-SO2- 或-CO-；a 为 0 或 1；Y 为 C,-C20烷基、C3-C20 环烷基、C6-C20 芳基、C6-C20 芳基、卤素或硝基；b、c、e 和 f 为 0 至 4；d 为 0 至 20；Ar 为 C6-C30 芳环。 由 C6-C30 芳族二胺衍生的重复单元可取代高达 50 摩尔%的上述硫醚酰胺单元，当 Ar 为间苯二甲酸酯或对苯二甲酸酯时，可取代 51 至 99 摩尔%的上述硫醚酰胺单元。这些聚合物具有优异的成型性、阻燃性、耐热性和耐化学性，适合用作工程塑料。
• Aromatic polythioetherimide
  申请人：MITSUBISHI PETROCHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0294848A1

  公开（公告）日：1988-12-14

  An aromatic polythioetherimide is disclosed, which comprises at least 50 mol% of a repeating unit represented by formula (I): wherein Ar is as defined in the specification, with the total of the repeating unit(s) being 100 mol%. The polythioetherimide has an excellent balance between heat resistance and mechanical properties as well as improved moldability.

  本发明公开了一种芳香族聚硫醚酰亚胺，它由至少 50 摩尔%的式 (I) 所代表的重复单元组成： 其中 Ar 如说明书中所定义，重复单元的总量为 100 摩尔%。这种聚硫醚酰亚胺在耐热性和机械性能之间取得了极佳的平衡，并改善了成型性。
• Resin composition, cured product and optical parts
  申请人：Tokyo Institute of Technology

  公开号：EP1975192A1

  公开（公告）日：2008-10-01

  It is provided for a resin composition including (A) at least one polyamic acid having the structure represented by the following formula (1) : wherein R1 is independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a cyano group; a is independently an integer of 0 to 4; R is a tetravalent organic group; n is an integer of 1 to 4; and m is an integer of 1 to 100,000, and (E) an organic solvent.

  本发明提供了一种树脂组合物，其中包括 (A) 至少一种具有下式（1）所示结构的聚酰胺： 其中 R1 独立地为具有 1 至 3 个碳原子的烷基或氰基；a 独立地为 0 至 4 的整数；R 为四价有机基团；n 为 1 至 4 的整数；m 为 1 至 100,000 的整数；以及 (E) 有机溶剂。
• Developing solution and method of forming polyimide pattern by using the developing solution
  申请人：Yoshiaki Kawamonzen

  公开号：US20010006767A1

  公开（公告）日：2001-07-05

  Disclosed is a developing solution for a photosensitive polyimide, which consists of an aqueous solution of an amine compound having a base dissociation index pKb [=−log (Kb)=−log (Kw/Ka)=14−pKa, where Kb is a base dissociation constant, Ka is acid dissociation constant of a proton complex, pKa is an acid dissociation index of a proton complex=−log (Ka), and Kw is an ion product of water=1×10 −14 ] of 5 to 8 within an aqueous solution of 25° C.

  本发明公开了一种用于感光聚酰亚胺的显影液，它由一种胺化合物的水溶液组成，该胺化合物的碱解离指数为 pKb [=-log (Kb)=-log (Kw/Ka)&equals；14-pKa，其中 Kb 是碱解离常数，Ka 是质子络合物的酸解离常数，pKa 是质子络合物的酸解离指数=-log (Ka)，Kw 是水的离子积=1×10 -14 ]在 25° C 的水溶液中为 5 至 8。