1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexyl methacrylate | 1258851-89-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexyl methacrylate
• 英文别名: [1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1258851-89-6
• 化学式: C₁₃H₁₉F₃O₂
• 分子量: 264.288
• InChiKey: XBGPORGOROPLGH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.77
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-三氟甲基环己烷-1-酮 在 4-二甲氨基吡啶 、 硫酸 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 (2S)-N-methyl-1-phenylpropan-2-amine hydrate 、 丙酮 为溶剂， 生成 1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。

  公开号：

  US20120156612A1

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition, method for forming a resist pattern, compound, and polymer
  申请人：Asano Yuusuke

  公开号：US08535871B2

  公开（公告）日：2013-09-17

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R1 represents a methyl group or the like, R2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R3 represents a fluorine atom or the like, R4 represents a carbon atom, and n1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括第一聚合物，该聚合物包括具有酸敏感基团的重复单元，并在酸敏感基团解离时变为碱溶性，以及辐射敏感的酸生成剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。其中，R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160053032A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A resist composition has a resin (A1) including a structural unit having an acid-labile group, a resin (A2) including a structural unit having a group represented by formula (Ia), and an acid generator. wherein R 1 in each occurrence independently represents a fluorine atom or a C 1 to C 6 fluorinated alkyl group, ring W represents a C 5 to C 18 alicyclic hydrocarbon group, n represents an integer of 1 to 6, and * represents a binding site.
• US8535871B2
  申请人：——

  公开号：US8535871B2

  公开（公告）日：2013-09-17
• US9562122B2
  申请人：——

  公开号：US9562122B2

  公开（公告）日：2017-02-07