5-[4-(2-acetoxyethyl)-phenyl]dibenzothiophenium iodide | 945617-67-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 5-[4-(2-acetoxyethyl)-phenyl]dibenzothiophenium iodide
• 英文别名: 5-[4-(2-Acetoxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide；2-(4-dibenzothiophen-5-ium-5-ylphenyl)ethyl acetate;iodide
• CAS: 945617-67-4
• 化学式: C₂₂H₁₉O₂S*I
• 分子量: 474.362
• InChiKey: KYTNUOGCVQHEQF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.84
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  27.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-[4-(2-acetoxyethyl)-phenyl]dibenzothiophenium iodide 在 四甲基氢氧化铵 作用下， 以 甲醇 、 氯仿 、 水 为溶剂， 生成 5-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND

  摘要：

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。

  公开号：

  US20090042124A1
• 作为产物：
  描述：

  磷酸酐 、 二苯并噻吩5-氧化物 、 乙酸苯乙酯 在 potassium iodide 、 甲烷磺酸 作用下， 生成 5-[4-(2-acetoxyethyl)-phenyl]dibenzothiophenium iodide
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND

  摘要：

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。

  公开号：

  US20090042124A1

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20080081288A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由下式(I)所表示的化合物：其中R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，Z表示单键或二价连接基团，X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。
• RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY, OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：YAMASHITA Katsuhiro

  公开号：US20090047598A1

  公开（公告）日：2009-02-19

  A positive resist composition for electron beam, X-ray or EUV includes (A) a compound represented by the following formula (I), and (B) a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, which includes a repeating unit represented by the following formula (II) and a repeating unit represented by the following formula (III):

  一种适用于电子束、X射线或EUV的正性光阻组合物，包括(A)由以下式子(I)表示的化合物和(B)一种树脂，能够通过酸的作用分解以增加在碱性显影液中的可溶性，该树脂包括由以下式子(II)和以下式子(III)表示的重复单元：
• Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern-forming method using the photosensitive composition
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US07851130B2

  公开（公告）日：2010-12-14

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R1 to R13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由以下公式(I)表示的化合物：其中，R1至R13各自独立地代表氢原子或取代基，Z代表单键或二价连接基团，X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。
• Resist composition for electron beam, X-ray, or EUV, and pattern-forming method using the same
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：US08084183B2

  公开（公告）日：2011-12-27

  A positive resist composition for electron beam, X-ray or EUV includes (A) a compound represented by the following formula (I), and (B) a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, which includes a repeating unit represented by the following formula (II) and a repeating unit represented by the following formula (III):

  一种用于电子束、X射线或EUV的正性光刻胶组合物包括(A)由以下公式(I)所代表的化合物，以及(B)一种能够通过酸的作用分解以增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，该树脂包括由以下公式(II)所代表的重复单元和由以下公式(III)所代表的重复单元。
• Resist composition containing novel sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and novel sulfonium compound
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：US08110333B2

  公开（公告）日：2012-02-07

  A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R1 to R13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R1 to R13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种抗蚀组合物包括(A)由以下式(I)表示的化合物：其中R1到R13中的每个独立表示氢原子或取代基，前提是R1到R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z表示单键或二价连接基；X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。