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[(2R)-butan-2-yl]-triphenylstannane | 33766-66-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[(2R)-butan-2-yl]-triphenylstannane
英文别名
——
[(2R)-butan-2-yl]-triphenylstannane化学式
CAS
33766-66-4
化学式
C22H24Sn
mdl
——
分子量
407.143
InChiKey
MHLRQNUHYLJURU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
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物化性质

  • 沸点:
    432.6±28.0 °C(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.96
  • 重原子数:
    23
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.18
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

SDS

SDS:e7f3eebe5b42da4e80acf270c6eaec0e
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    [(2R)-butan-2-yl]-triphenylstannane 作用下, 生成 sec-butyl phenyl tin dibromide
    参考文献:
    名称:
    Stereochemistry and mechanism of the bromine cleavage of organotin compounds
    摘要:
    DOI:
    10.1021/ja00745a040
  • 作为产物:
    描述:
    三苯基氯化锡 在 sec-butyl halogenide 作用下, 以 甲醚 为溶剂, 以46-58的产率得到[(2R)-butan-2-yl]-triphenylstannane
    参考文献:
    名称:
    Stereochemistry and mechanism of the bromine cleavage of organotin compounds
    摘要:
    DOI:
    10.1021/ja00745a040
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文献信息

  • SEMICONDUCTOR RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION
    申请人:Samsung SDI Co., Ltd.
    公开号:US20200117085A1
    公开(公告)日:2020-04-16
    This disclosure relates to a semiconductor resist composition including an organometallic compound represented by Chemical Formula 1 and a solvent, and to a method of forming patterns using the composition: wherein, in Chemical Formula 1, R 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or an -alkylene-O-alkyl group, and R 2 to R 4 are each independently selected from —OR a and —OC(═O)R b .
    这份披露涉及一种包括化学式1所代表的有机属化合物和溶剂的半导体抗蚀组合物,以及使用该组合物形成图案的方法:在化学式1中,R1是脂肪烃基、芳香烃基或-烷基-氧-烷基,R2到R4分别独立地选自—ORa和—OC(═O)Rb。
  • SEMICONDUCTOR PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THEREOF AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION
    申请人:Samsung SDI Co., Ltd.
    公开号:US20220194968A1
    公开(公告)日:2022-06-23
    A semiconductor photoresist composition includes an organotin compound represented by Chemical Formula 1, and a solvent. A method for preparing the same, and a method of forming patterns utilizing the same are disclosed. Specific details of Chemical Formula 1 are as defined in the specification.
    一种半导体光刻胶组合物,包括由化学式1表示的有机锡化合物和溶剂。公开了制备该组合物的方法以及利用该组合物形成图案的方法。化学式1的具体细节在规范中定义。
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Sn: Org.Verb.2, 1.1.2.15.1, page 353 - 359
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Rahm, A.; Pereyre, M., Bulletin des Societes Chimiques Belges, 1980, vol. 89, # 10, p. 843 - 848
    作者:Rahm, A.、Pereyre, M.
    DOI:——
    日期:——
  • Fukuto, Jon M.; Newman, David A.; Jensen, Frederick R., Organometallics, 1987, vol. 6, # 2, p. 415 - 420
    作者:Fukuto, Jon M.、Newman, David A.、Jensen, Frederick R.
    DOI:——
    日期:——
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