4-甲基偶氮苯四氟硼酸盐 | 459-44-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 4-甲基偶氮苯四氟硼酸盐
• 英文名称: 4-Methylbenzenediazonium tetrafluoroborate
• 英文别名: 4-methylbenzenediazonium;tetrafluoroborate
• CAS: 459-44-9
• 化学式: C7H7BF4N2
• 分子量: 205.95
• InChiKey: ISOJODWLDZSAPV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  109-111 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.78
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  28.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-甲基偶氮苯四氟硼酸盐 以47%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  ENGMAN, L., J. ORG. CHEM., 1983, 48, N 17, 2920-2922

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙烷,三氯氟- 、 sodium nitrite 、 氟硼酸 以65%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  KREHER, RICHARD P.;USE, GOTZ, CHEM. BER., 122,(1989) N, C. 337-342

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Unsaturated oxime derivatives and the use thereof as latent acids
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Corporation

  公开号：US06703182B1

  公开（公告）日：2004-03-09

  Compounds of formulae I, II or III wherein m is zero or 1; n is 1, 2 or 3; R1 inter alia is unsubstituted or substituted phenyl, or naphthyl, anthracyl, phenanthryl, a heteroaryl radical, or C2-C12alkenyl; R′1 inter alia is vinylene, phenylene, naphthylene, diphenylene or oxydiphenylene; R2 inter alia is CN, C1-C4haloalkyl, C2-C6alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, or benzoyl; R3 inter alia is C1-C18alkylsulfonyl, phenyl-C1-C3alkylsulfonyl, camphorylsulfonyl, or phenylsulfonyl; R′3 inter alia is C2-C12alkylenedisulfonyl, phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl; R4 and R5 inter alia are hydrogen, halogen, C1-C8alkyl, C1-C6alkoxy, C1-C4haloalkyl, CN, NO2, C2-C6alkanoyl, benzoyl, phenyl, —S-phenyl, OR6, SR9, NR7R8, C2-C6alkoxycarbonyl or phenoxycarbonyl; R6 inter alia is hydrogen, phenyl or C1-C12alkyl; R7 and R8 inter alia are hydrogen or C1-C12alkyl; R9 inter alia is C1-C12 alkyl; R10, R11 and R12 inter alia are C1-C6alkyl or phenyl; upon irradiation react as acid generating compounds and thus are suitable in photoresist applications.

  化合物的公式为I、II或III，其中m为零或1；n为1、2或3；R1包括未取代或取代的苯基、萘基、蒽基、菲基、杂环基或C2-C12烯基；R′1包括乙烯基、苯基、萘基、二苯基基或氧二苯基基；R2包括CN、C1-C4卤代烷基、C2-C6烷氧羰基、苯氧羰基或苯甲酰基；R3包括C1-C18烷基磺酰基、苯基-C1-C3烷基磺酰基、樟脑基磺酰基或苯磺酰基；R′3包括C2-C12烷二磺酰基、苯基二磺酰基、萘基二磺酰基、二苯基基二磺酰基或氧二苯基基二磺酰基；R4和R5包括氢、卤素、C1-C8烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、C2-C6酰基、苯甲酰基、苯基、-S-苯基、OR6、SR9、NR7R8、C2-C6烷氧羰基或苯氧羰基；R6包括氢、苯基或C1-C12烷基；R7和R8包括氢或C1-C12烷基；R9包括C1-C12烷基；R10、R11和R12包括C1-C6烷基或苯基；在辐照下反应为产生酸的化合物，因此适用于光刻胶应用。
• KIKUKAWA KIYOSHI; NAGIRA KAZUHIKO; TERAO NOBUYUKI; WADA FUMIO; MATSUDA TS+, BULL. CHEM. SOC. JAP., 1979, 52, NO 9, 2609-2610
  作者：KIKUKAWA KIYOSHI、 NAGIRA KAZUHIKO、 TERAO NOBUYUKI、 WADA FUMIO、 MATSUDA TS+

  DOI：——

  日期：——
• NAGIRA K.; KIKUKAWA K.; WADA F.; MATSUDA T., J. ORG. CHEM., 1980, 45, NO 12, 2365-2368
  作者：NAGIRA K.、 KIKUKAWA K.、 WADA F.、 MATSUDA T.

  DOI：——

  日期：——
• KIKUKAWA KIYOSHI; KONO KIYOSHI; NAGIRA KAZUHIKO; WADA FUMIO; MATSUDA TSUT+, TETRAHEDRON LETT., 1980, 21, NO 30, 2877-2878
  作者：KIKUKAWA KIYOSHI、 KONO KIYOSHI、 NAGIRA KAZUHIKO、 WADA FUMIO、 MATSUDA TSUT+

  DOI：——

  日期：——
• GANUSHCHAK N. I.; VENGRZHANOVSKIJ V. A.; BARANOV V. A.; BACHINSKIJ T. P., ZH. OBSHCH. XIMII, 1980, 50, HO 11, 2459-2462
  作者：GANUSHCHAK N. I.、 VENGRZHANOVSKIJ V. A.、 BARANOV V. A.、 BACHINSKIJ T. P.

  DOI：——

  日期：——